何子博
,
李贺军
,
史小红
,
付前刚
,
吴恒
材料导报
为提高碳/碳复合材料抗氧化性能,以甲基三氯硅烷(MTS)为先驱体,利用低压化学气相沉积(LPCVD)技术在碳/碳复合材料表面制备SiC-MoSi2涂层,通过XRD和SEM分析了不同沉积温度下涂层结构、物相组成及其沉积机理.结果表明,沉积温度对涂层的成分、结构及致密度有较大影响,在1100～1250℃均可成功得到SiC- MoSi2涂层,1100℃所得涂层结构疏松多孔；1250℃制备的涂层中间部位孔隙较多,表层为致密SiC涂层；1150～1200℃之间可得到均匀致密、以MoSi2颗粒为分散相、以CVD-SiC为连续相的SiC-MoSi2双相陶瓷涂层.
关键词:
低压化学气相沉积
,
SiC-MoSi2
,
双相陶瓷涂层
,
沉积温度
,
沉积机理
苏葆辉
,
何子博
,
冉均国
,
苟立
,
王方瑚
稀有金属材料与工程
采用射频辉光放电等离子体化学气相沉积(RF-PCVD)法在聚碳酸酯(PC)表面沉积类金刚石(DLC)薄膜.研究了功率、气体浓度和沉积时间等条件对薄膜性能的影响,优化了工艺条件;用X射线光电子能谱测定了薄膜的组成;评价了薄膜的耐磨性能和附着性能.结果表明:PC镜片表面沉积附着性好的DLC薄膜能提高材料表面的耐磨性能.
关键词:
聚碳酸脂
,
等离子体化学气相沉积
,
类金刚石膜
,
耐磨性能
何子博
,
陈显春
,
苏葆辉
,
冉均国
,
苟立
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2006.02.025
针对树脂镜片耐磨性较差的问题,在聚碳酸脂(PC)镜片上采用射频辉光放电等离子体(RF-PECVD)设备沉积类金刚石(DLC)薄膜来提高耐磨性,研究了沉积工艺条件对PC基体镀类金刚石(DLC)薄膜耐磨性的影响.摩擦磨损试验、显微硬度检测评价的结果表明:在PC镜片上沉积DLC薄膜后其耐磨性有很大提高,磨损率从12.5μg/m降低到5.7μg/m,摩擦系数由0.6降到0.22,硬度提高35.7%,并获得较佳的工艺参数.
关键词:
聚碳酸脂
,
DLC
,
耐磨损性
何子博
,
苏葆辉
,
冉均国
,
苟立
材料导报
树脂光学镜片以其优异的性能逐步取代玻璃镜片,占据了国内外大部分市场,但由于硬度低,耐磨损性差,所以使用寿命较短.研究发现在其表面镀制抗磨加硬膜可显著提高耐磨损性.综述了国内外近年来在树脂镜片上涂镀有机硅、石英等抗磨加硬膜的制备方法和性能研究进展,并介绍了在树脂镜片上沉积新型类金刚石(DLC)抗磨加硬膜的研究现状及发展前景.
关键词:
树脂镜片
,
耐磨损性
,
抗磨加硬膜
,
类金刚石
吴恒
,
李贺军
,
王永杰
,
付前刚
,
何子博
,
魏建锋
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2009.00392
以SiCl4和H2为原料,采用低压化学气相沉积(LPCVD)渗硅法在Mo基体表面原位反应制备了MoSi2涂层,研究了沉积温度对MoSi2涂层微观形貌、物相组成、沉积速率、涂层的硬度、涂层与基体结合强度的影响.研究结果表明:在1100～1200℃下制备的涂层结构致密,由单一MoSi2组成,沉积速率、涂层的硬度以及与基体的结合强度均表现为増加的趋势;当沉积温度高于1200℃,涂层出现开裂现象,由游离Si和MoSi2两相组成,涂层沉积速率、硬度和结合强度均出现下降的趋势.1100℃以下沉积的主要控制步骤为Si与Mo反应,而1100℃以上Si在涂层中的扩散对沉积过程起控制作用.
关键词:
LPCVD
,
MoSi2涂层
,
微观结构
,
性能
,
沉积温度
