欢迎登录材料期刊网
储开慧 , 狄国庆
材料导报
通过屏蔽传统磁控溅射设备阴极内的磁场和在基片下放置永磁铁,使来自基片下的磁场发挥作用,研究了此外加磁场在溅射过程中对薄膜沉积所产生的影响.用这种方法沉积出的Cu、Al的薄膜的宏观形貌为:膜的中央有一圆斑,在圆斑的外围有环.Al薄膜的中央圆斑处没有物质,为空白圆斑;而Cu薄膜的中央圆斑处有物质.对这一实验现象的产生机理,初步认为是成膜粒子在磁场中表现出的波动性.
关键词: 磁控溅射 , 膜厚 , 梯度磁场
顾佳烨 , 狄国庆 , 储开慧
功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.06.021
介绍了基片下外加磁场的方法来溅射制备铜膜的实验,结果发现薄膜的表面形貌和微结构与平常磁控溅射法所得的有很大的不同.在溅射过程中等离子体的发光也明显增强.相同的输入功率下,自偏压较磁控溅射有明显下降.研究认为产生以上现象的原因是实验中采用的特殊装置产生的磁镜效应对溅射空间大量离子作用的结果.
关键词: 溅射 , 外加磁场 , 磁镜 , 爱里斑 , 薄膜
