吴建波
,
晋云霞
,
关贺元
,
孔钒宇
,
刘文文
,
刘世杰
,
易葵
无机材料学报
doi:10.15541/jim20140025
分别以金(Au)作为金属层材料,氧化铪(HfO2)与氧化硅(SiO2)作为高低折射率层材料,利用物理气相沉积方法制备了用于宽带脉冲压缩光栅制作的金属/介质多层高反膜,研究了退火温度对其表面均方根粗糙度、反射率及抗化学清洗破坏能力的影响.实验结果表明:退火前后样品表面均方根粗糙度变化很小;提高退火温度能提高金属/介质多层膜的抗化学清洗破坏能力,但反射率会随之下降.250℃退火10 h后金属/介质多层膜不仅可以承受住化学清洗过程,而且反射率下降也比较小,可以作为金属/介质多层膜的最佳退火工艺.
关键词:
金属/介质多层膜
,
脉冲压缩光栅
,
退火
,
化学清洗
,
反射率
