林育琼
,
冯仕猛
,
王坤霞
,
裴俊
,
刘绍军
,
刘峰
材料科学与工程学报
本文提出两步法制备多晶硅表面绒面技术,用两次化学腐蚀修饰多晶硅片的表面。实验中首先采用腐蚀液HF/NaNO2/H2O对多晶硅表面进行腐蚀,然后采用腐蚀液HF/HNO3/（NH4）2C2O4/H2O对其表面进一步修饰。通过多晶硅SEM表面形貌图分析,两步法修饰的多晶硅表面有形状如蚯蚓状的腐蚀坑,腐蚀坑的深度和分布密度相对较大。通过反射谱分析了多晶硅片表面陷光效果,并与用其它方法修饰的硅表面陷光效果进行了对比,与传统配方HF/HNO3/H2O获得的多晶硅表面相比,综合平均反射率下降了7%左右。这种方法获得的多晶硅表面能有效收集太阳光,有利于提高太阳能电池的转换效率。
关键词:
酸腐蚀法
,
表面结构
,
陷光效应
,
反射率
林育琼
,
冯仕猛
,
王坤霞
,
顾俊
,
刘少军
,
刘峰
材料科学与工程学报
在酸制绒液中加入含氟表面活性剂,对多晶硅片制绒。然后通过扫描电子显微镜观察多晶硅表面织构,并在此基础上分析含氟表面活性剂对腐蚀效果的影响。实验结果表明：虽然传统酸液对多晶硅制绒是各向同性的,但加入含氟表面活性剂后,酸腐蚀出现各向异性腐蚀特性;由此制备的多晶硅片反射率从25.7%下降到了23.9%,表面出现变形的金字塔、三角形等,且不同晶面的金字塔和三角形的大小和倾斜角度不同。最后根据杨氏理论,从界面张力的角度解释了含氟表面活性剂对制绒的影响机理。
关键词:
氟表面活性剂
,
多晶硅片
,
绒面
单以洪
,
冯仕猛
,
雷刚
,
鞠雪梅
,
周玲
,
杨树泉
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2014.02.018
用一个简单模型分析了量子点产生能级的原因,推导出能级与量子点尺寸的表达式.根据量子点表面势垒为有限值的特点以及表面存在衰减波,提出量子点内电子波函数不完全满足驻波条件的观点,在量子点的能级表达式中引入一个修正系数.结合量子点表面衰减波的特征,给出量子点修正系数的计算方法.通过理论计算表明:量子点的能级以及能级之间的能量差(间隙)不但与量子点的尺寸有关,而且与其边界条件有关.特别是对于非光滑的表面,其表面势垒对量子点的能级与能隙影响非常大.
关键词:
光电子学
,
量子点
,
半导体
,
能级
,
能隙
周羲君
,
冯仕猛
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20122706.0774
当前越来越多的液晶显示器都朝着低功耗的方向发展,而降低功耗的直接方法是减少作为光源的LED数目及功耗,但因LED颗数变少,使LED间距增大而产生hot spot.为解决这个问题,文中在不改变LED与导光板之间空气层的前提下,增大相邻LED之间间距,达了到很好的混光效果.由于LED入射导光板的光入射角增大,解决了在LED背光模组的hot spot现象,使均匀性得到最大程度的改善,这一研究对于提高低功耗液晶显示器显示效果具有一定的参考意义.
关键词:
LED
,
均匀性
