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ZnS衬底表面制备HfO_2增透保护膜的性能

赵晓静 , 李成明 , 陈良贤 , 刘金龙 , 冯寅楠 , 黑立富 , 吕反修

材料热处理学报

用射频磁控溅射法在CVD ZnS衬底上制备了HfO2薄膜,利用X射线衍射（XRD）,扫描电镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、傅里叶红外光谱（FTIR）和纳米力学探针对HfO2薄膜的结构和性能进行了分析和测试。结果表明,制备的HfO2为单斜相,膜层致密、表面平整、粗糙度仅为3.0 nm,硬度（7....

关键词: ZnS , HfO2薄膜 , 增透保护膜 , 射频磁控溅射