张福军
,
任诠
,
张健
,
孙香冰
,
王彦玲
,
杨旭东
,
高怡
,
杨洪亮
,
冯林
,
张光辉
,
许东
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2007.04.013
合成了一种新型有机金属配合物:[C16H33(CH3)3N]Ni(dmit)2(简称为CTNI),通过旋涂法制备了不同质量比的复合聚合物CTNI/PMMA薄膜,用视频摄像技术测量了其光传输损耗.结果表明,对8%质量分数掺杂浓度的CTNI/PMMA聚合物复合薄膜的光传输损耗为3.001dB/cm,随着...
关键词:
复合聚合物薄膜
,
传输损耗
,
视频摄像技术
冯林
,
蒋百灵
,
杨超
,
郝娟
,
张彤晖
稀有金属
将靶材与真空腔之间的伏安特性引入正-反欧姆过渡区间,采用脉冲控制模式研究不同靶电流密度对镀层均匀性和膜/基结合强度的影响规律.实验发现,当靶面放电区电流密度(Id)由0.083 A/cm2增加至0.175 A/cm2时,靶电压随靶电流密度的增大呈线性增大关系,与之对应的镀层厚度差由7.984 μm增...
关键词:
磁控溅射离子镀
,
伏安特性
,
反欧姆区
,
离化率
郝娟
,
蒋百灵
,
杨超
,
冯林
,
张彤晖
稀有金属
采用脉冲控制模式将气体放电伏安特性由磁控溅射离子镀的“正欧姆”区间引入到“反欧姆”区间,并在不同靶电流密度下制备了TiN薄膜.研究了正反欧姆区间伏安特性对薄膜微观结构及性能的影响.结果表明:在靶电流密度(Itd)大于0.2 A·cm-2的反欧姆区间,薄膜具有良好的表面质量和致密程度;且薄膜的硬度和膜...
关键词:
反欧姆区
,
靶电流密度
,
TiN薄膜
,
离化率
杨超
,
蒋百灵
,
郝娟
,
冯林
稀有金属材料与工程
针对溅射离子镀离化率低及多弧离子镀易产生微米级熔滴喷溅这一长期制约离子镀技术发展的难题,依据金属靶材内部电子在通过电阻值较大的组织缺陷处会导致该区域温度上升的焦耳热效应和金属表面高温下电子热发射等物理学现象,建立以离子碰撞和靶材热发射为脱靶机制的新型微弧离子镀技术.通过氩离子的轰击动能和金属靶材内电...
关键词:
伏安特性
,
TiN薄膜
,
热发射
,
离化率
冯林
,
王燕华
,
钟莲
,
王佳
,
李爱娇
,
金晓晓
中国腐蚀与防护学报
doi:10.11902/1005.4537.2015.162
采用动电位极化(PDS)、电化学阻抗谱(EIS)、电容测量以及阵列电极等技术研究了Cu的短期贮存对其腐蚀电化学行为的影响.结果表明,金属Cu表面膜呈现p型半导体结构,经过短期贮存后载流子浓度减小,腐蚀电位正移,腐蚀电流密度下降,表面膜对腐蚀阴极过程、阳极过程均有抑制作用.Cu在NaCl液滴下呈现典型...
关键词:
阵列电极
,
短期贮存
,
Cu
,
Mott-Schottky曲线
,
液滴
,
腐蚀
