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电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护

冷文华 , 刘东坡 , 程小芳 , 朱文彩 , 张鉴清 , 曹楚南

金属学报

为利用可见光能实现对金属材料的光电化学防腐蚀，采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极。考察了其制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响。结果表明：沉积电位-0.45 V （相对于饱和甘汞电极），沉积时间1600 s，烧结温度400 ˚C时电极光电性能较好；在光电化学电池中，阳极室添加空穴捕获剂如甲酸和升高溶液pH，有利于光电流输出。在阳极室溶液组成为0.5 mol•dm-3 Na2SO4+0.5 mol•dm-3 HCOOH (pH 9.6)时，WO3 薄膜电极在可见光光照下可对4 mol•dm-3 NaCl 溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀。这为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径，具有广泛潜在的应用前景。

关键词: WO3 , null , null

金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展

张鉴清 , 冷文华 , 程小芳 , 刘东坡

中国腐蚀与防护学报

自上世纪70年代以来，半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.

关键词: 光电化学 , semiconductor , cathodic protection , corrosion.

金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展

张鉴清 , 冷文华 , 程小芳 , 刘东坡

中国腐蚀与防护学报 doi:10.3969/j.issn.1005-4537.2006.03.013

自上世纪70年代以来,半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.

关键词: 光电化学 , 半导体 , 阴极保护 , 腐蚀

电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护

冷文华 , 刘东坡 , 程小芳 , 朱文彩 , 张鉴清 , 曹楚南

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2007.07.018

采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极.考察了制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响.结果表明:沉积电位-0.45 V(相对于饱和甘汞电极)、沉积时间1600 s、烧结温度400℃时电极光电性能较好;在光电化学电池中,阳极室添加空穴捕获剂(如甲酸和升高溶液pH值,有利于光电流输出.在阳极室溶液组成为0.5 mol/dm3Na2SO4+0.5 mol/dm3HCOOH(pH 9.6)时,WO3薄膜电极在可见光光照下可对4 mol/dm3NaCl溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀,为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径.

关键词: WO3 , 电沉积 , 可见光 , Cu , 光电化学防腐蚀

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