杨铭
,
范红玉
,
解晓东
,
郭一鸣
,
刘云鹤
,
李坤
材料研究学报
doi:10.11901/1005.3093.2015.428
利用低能H离子对20 MeV W6+预注入和未注入的钨样品进行辐照实验,考察H离子能量(20-520 eV)和辐照温度(673-1073K)变化对钨表面微结构的影响.采用非破坏性的导电模式原子力显微镜和扫描电镜分析预注入和未注入钨样品的表面形貌和内表面缺陷分布情况.结果表明,辐照后的样品表面出现大量的纳米尺寸凸起,高能W6+预注入的样品表面损伤要小于未注入的钨样品,意味着高能离子预注入会对材料的表面损伤起到抑制作用,但是当辐照温度高于1073 K时,这种抑制作用开始减弱.
关键词:
金属材料
,
钨
,
导电原子力显微镜
,
表面损伤
,
辐照
