黄树涛
,
刘兴文
,
许立福
,
于骏一
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2003.03.028
为探讨燃焰法沉积高质量金刚石厚膜的可能及其沉积速率,在反应气体流量比O2/C2H2=0.97～1范围内,研究了基体温度对燃焰法沉积金刚石厚膜的影响.结果表明,基体温度在610～730℃范围内可沉积出均匀、致密、结晶形态优良的金刚石厚膜;金刚石厚膜沉积速率随基体温度的下降而下降,基体温度约为730℃时,可以约50μm/h的较高速率沉积出淡黄色透明状高质量金刚石厚膜.当基体温度在820℃左右的高温时,金刚石厚膜不均匀,晶粒间存在较大间隙,且在金刚石厚膜生长过程中,存在较多的二次成核.
关键词:
化学气相沉积
,
燃焰法
,
金刚石厚膜
