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MOCVD法氧化锌单晶薄膜生长

刘博阳 , 杜国同 , 杨小天 , 赵佰军 , 张源涛 , 高锦岳 , 刘大力 , 杨树人

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.02.005

介绍了氧化锌材料的一些突出特性以及生长氧化锌的方法.并通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法制备了优良的氧化锌薄膜.使用X射线衍射(XRD)谱和室温光致发光(PL)光谱对所生长氧化锌薄膜的晶体质量和光学特性进行了研究. X射线衍射谱图显示仅在2θ=34.72 °处有一个很陡峭的ZnO (002) 晶面衍射峰,说明所制备的氧化锌薄膜c轴取向高度一致.此衍射峰的半高宽为0.282 °,显示出较好的晶体质量.在室温光致发光谱中, 薄膜的紫外发光强度与深能级复合发光的强度比超过10∶1,表明薄膜的光学质量较高.

关键词: 氧化锌 , 金属有机化学气相沉积 , 薄膜 , 生长

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