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靶基距对射频磁控溅射法制备氟碳膜的结构与性能影响

刘增机 , 纪全 , 张浴晖 , 夏延致 , 王凤军

功能材料

采用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯(PT-FE)为靶,氩气为载气,在再生纤维素基底上制备了氟碳膜.用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)和静态接触角测试仪对氟碳膜的表面形貌、表面结构和表面性能进行了研究.结果表明,该法制得的氟碳膜是由纳米粒子组成的岛状结构,岛的表面起伏不平.这种氟碳膜由-CF3-CF2-、-CF-和-C-4个组分构成,靶基距从30mm增加到813mm时,氟碳膜的F/C从0.551减小到0.427,呈逐渐减小的趋势.随着靶基距的增大,接触角从107°逐渐减小到75°,减小靶基距有利于提高氟碳膜的疏水性能.

关键词: 射频磁控溅射 , 靶基距 , AFM , XPS , 接触角

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