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负偏压增强金刚石膜与衬底结合强度的理论研究

刘凤艳 , 刘宇星 , 刘敏蔷 , 侯碧辉

功能材料

由于金刚石与Si有较大的晶格失配度和表面能差,利用化学气相沉积(CVD)制备金刚石膜时,金刚石在镜面光滑的Si表面上成核率非常低.而负衬底偏压能够提高金刚石在镜面光滑的Si表面上的成核率,表明金刚石核与Si表面的结合力也得到增强.利用负偏压增强CVD系统制备金刚石膜时,气体辉光放电产生的离子对Si表...

关键词: 金刚石膜 , 硅衬底 , 结合力