胡智杰
,
陶冶
,
王玉
,
刘红亮
物理测试
研究了Mo、Co、Nb等元素离子注入及薄膜沉积方法对TiN薄膜性能的影响.采用SRV磨损实验、表面形貌轮廓等方法研究分析了离子注入对TiN薄膜的摩擦系数、耐磨性能、显微硬度的影响规律.实验结果表明:磁过滤电弧镀的TiN薄膜的摩擦系数曲线与常规电弧镀TiN薄膜的摩擦系数曲线相差很大,且耐磨性能优于电弧...
关键词:
TiN
,
离子注入
,
摩擦
,
磨损
刘红亮
,
陶冶
,
胡智杰
物理测试
利用MeVVA离子源技术对阴极磁过滤真空弧沉积的TiAlN薄膜进行了不同注入剂量的Nb及Nb+C离子注入.采用EDS、TEM、GIXRD、显微硬度等测试方法研究了离子注入剂晕对于薄膜微观结构和性能的影响.结果表明,注入剂量为Nb 5×1017 ions/cm2+C5×1017 ions/cm2时,N...
关键词:
离子注入
,
TiAlN薄膜
,
非晶
,
纳米晶
梁旺胜
,
陶冶
,
刘红亮
物理测试
利用磁过滤阴极电弧镀在硬质合金上沉积厚度约2~3μm的TiA1N薄膜,并用MEVVA源离子对TiA1N薄膜注入金属离子V+和Nb+.应用北京同步辐射装置(BSRF)的同步辐射光源,采用掠入射X射线衍射(GIXRD)的方法对TiA1N薄膜表面离子注入层的微观结构进行分析研究.结果表明:未经过离子注入的...
关键词:
同步辐射
,
掠入射
,
X射线衍射
,
离子注入
,
TiA1N薄膜