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SiC及a-SiC:H薄膜的辐照及其进展

刘贵昂 , 王天民

材料导报

SiC是一种宽带隙半导体材料,在高温、高频、大功率、光电子及抗辐射等方面具有巨大的应用潜力。介绍了国外对该材料及其薄膜进行辐照的一些结果,并指出开展SiC及其薄膜辐照效应研究的重要意义,预测了其发展方向和应用前景。

关键词: SiC , 辐照 , 发展方向与应用前景

二步热氧化法制备SnO2薄膜的特性

李栋宇 , 刘贵昂 , 潘喜诚 , 邵乐喜

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.04.011

氧化温度有很大的联系.通过UV-VIS透过光谱得知随着氧化温度的升高,SnO2薄膜的光透过率也升高,光学禁带宽度也随着氧化温度的升高而升高.这种制备SnO2薄膜的工艺具有适于大面积制造,低成本,过程容易控制等很多优点.

关键词: SnO2薄膜 , 热氧化法 , 蒸发

复合电镀法制备纳米TiO2涂层光催化及电催化特性的比较

刘贵昂 , 赖国霞

钛工业进展 doi:10.3969/j.issn.1009-9964.2009.06.009

采用复合电镀方法,首次在泡沫铝表面成功制备出掺杂的纳米TiO2涂层.运用紫外-可见光(UV-VIS)分光光度计、X射线衍射(XRD)仪及SEM等对样品进行了分析与表征.XRD分析结果表明,纳米TiO2涂层由锐钛矿及金红石相组成,其平均晶粒的大小为25~38 nm.光催化和电催化降解次甲基蓝溶液实验表明,泡沫铝负载纳米TiO2涂层降解次甲基蓝溶液的电催化活性明显好于光催化活性.当电催化降解6 h后,次甲基蓝溶液的降解率达到36.4%,而在相同条件下光催化降解率仅为17.8%.

关键词: 复合电镀 , 二氧化钛涂层 , 光催化 , 电催化

类金刚石薄膜的紫外辐照研究

刘贵昂 , 谢二庆 , 王天民

功能材料

对射频等离子体方法制备的类金刚石(以下简称DLC)薄膜样品进行了紫外辐照.采用电阻率、Raman光谱及红外光谱研究了紫外光(以下简称UV)辐照对DLC薄膜结构与特性的影响.Raman光谱表明:紫外光对DLC薄膜中SPC-H键的破坏作用非常明显,红外(IR)光谱结果进一步验证了这一结果.经UV辐照后,DLC薄膜的电阻率呈变小趋势,这说明薄膜被强烈氧化,最后呈现石墨化趋势.

关键词: 类金刚石薄膜 , 紫外光辐照 , Raman光谱 , 红外光谱 , 石墨化

γ射线辐照对类金刚石薄膜结构与特性的影响

刘贵昂 , 谢二庆 , 王天民

功能材料

用射频等离子体方法在玻璃基底上制备了类金刚石薄膜.分析了γ射线辐照类金刚石薄膜(以下简称DLC薄膜)的结构与特性改变.采用Raman及红外光谱进行结构分析表明:随辐照剂量的增加,在膜中出现SP3C-H及SP2C-H键的断裂与减少,SP3C-C键的略微增加.当辐照剂量达10×104Gy时,SP3C-H键减少约50%,与此同时,出现膜中氢的重新键合,并从中释出.γ射线辐照使DLC薄膜的电阻率呈上升趋势,膜的类金刚石特征更加明显,结构得到改善.本文对γ射线对DLC薄膜的辐照机制进行了简要的讨论.

关键词: 类金刚石薄膜 , γ射线辐照 , SP3C-H及SP3C-C键 , 结构与特性

类金刚石薄膜的辐照及其发展

刘贵昂 , 王天民 , 王欲知

材料导报

类金刚石薄膜(以下简称DLCF)是一种极有发展前途的材料,其用途非常广泛。介绍DLCF辐照的现状,指出DLCF辐照效应的研究对其在空间、核聚变反应等辐照环境下应用的必要性和重要性,预测了其发展方向和应用前景。

关键词: 类金刚石薄膜 , 辐照 , 发展方向

γ射线与N离子辐照类金刚石薄膜的机理研究

刘贵昂 , 谢二庆 , 王天民

原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2001.02.011

对类金刚石(以下简称DLC)薄膜受γ射线与N离子辐照的结果进行了比较. 通过Raman光谱分析得出:γ射线辐照造成薄膜中SP3C—H和SP2C—H键的减少及SP3C—C键的增加, 与此同时氢原子结合成氢分子,并从膜中释出,薄膜的类金刚石特征更加明显. 当辐照剂量达10×104 Gy时, SP3C—H键减少了约50%. N离子辐照使DLC薄膜中SP3C—C键、 SP2C—H键及SP3C—H键的含量均变少,并伴随着氢分子的释出,直接导致DLC薄膜的进一步石墨化,其对SP3C—H及SP2C—H键的破坏程度远大于γ射线. 两者在辐照机理上截然不同.

关键词: 类金刚石薄膜 , γ射线辐照 , N离子辐照 , 机理

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