王志斌
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吴传超
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安永泉
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赵同林
,
解琨阳
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刘顺
人工晶体学报
晶体的化学机械抛光(CMP)加工中存在工件的表面平整度差的问题.晶体平整度差,两块晶体在真空压合的过程中就会导致晶体被压裂甚至压碎,晶体表面出现任何微小的缺陷都会造成压合的失败,晶体的压合对于晶体表面的平整度要求非常高,因此本文针对这一现象提出一种定偏心平面CMP方式,通过此种被动驱动式平面CMP方法,合理选择CMP及偏心距的参数,使得被加工晶体(ZnSe)的表面粗糙度值达到0.846 nm,平面面形误差小于1.178 μm.
关键词:
定偏心
,
CMP
,
轨迹方程
,
均匀性
刘筠
,
刘顺
连铸
doi:10.13228/j.boyuan.issn1005-4006.20160084
末端电磁搅拌对铸坯中心质量改善起到了重要作用,而安装位置则是末端电磁搅拌发挥作用的基础.在生产过程中,末端电磁搅拌需安装在未凝固率为25％～35％的位置,往往通过射钉试验来确定.在高碳钢射钉试验时,钢钉往往不能熔化,造成固液相区难以区分,安装位置不准确.通过寻找一种合适材料制作成钢钉,并成功在高碳钢射钉试验中使用,取得了良好效果.
关键词:
末端电磁搅拌
,
射钉试验
,
高碳钢
