刘齐成
,
刘培英
,
陶冶
,
刘利
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2000.12.007
用等离子体增强化学气相沉积(PCVD)法和化学气相沉积(CVD)法分别制备TiN系薄膜.采用扫描电镜、X射线衍射仪和连续加载压入仪研究分析薄膜的微观结构、相结构和薄膜的力学性能,并采用电极电位法测定了薄膜的耐腐蚀性能.研究表明:PCVD法TiN系薄膜的微观组织形态明显优于同类的CVD法薄膜,PCVD法薄膜晶粒尺寸细小、均匀,形态圆整,组织致密;CVD法薄膜晶粒形态为多边形,尺寸较粗大、不均匀,组织致密性差;PCVD法TiN系薄膜的韧性和结合力等力学性能可达到或优于同类CVD法薄膜;虽然PCVD法薄膜的氯含量(约为2%)远高于CVD法薄膜(约为0.5%),但PCVD法薄膜的耐蚀性能却明显优于CVD法薄膜.还研究分析了PCVD法和CVD法成膜模式对薄膜微观结构和性能的影响机理.
关键词:
CVD法
,
PCVD法
,
薄膜
