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自组装单分子膜的末端基团对化学气相沉积铜薄膜的影响

刘铮铮 , 王琦 , 刘鑫 , 包杰琼

材料科学与工程学报

利用化学气相沉积(CVD)的方法在自组装单分子膜(SAMs)修饰的SiO2表面沉积铜薄膜,并对得到的铜薄膜的性质进行表征与分析.通过比较研究发现:在沉积过程中,SAMs的末端基团作为铜沉积的反应位点,末端基团与铜之间的相互作用力越强,则铜在基材表面的沉积与附着能力越强,而且SAMs阻挡铜原子扩散进入...

关键词: 材料表面与界面 , 自组装单分子膜(SAMs) , 末端官能团 , 铜薄膜 , 化学气相沉积