王毅
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王盼
,
索红莉
,
贾强
,
卢东琪
,
李怀洲
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吴海明
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2017.02.008
采用环保型抛光液对离子束辅助沉积技术路线用哈氏合金HastelloyC-276基带进行了电化学抛光,获得了典型的阳极极化曲线,并阐述了电化学抛光的机理.研究了影响电化学抛光的因素(电解液温度、抛光时间、抛光极距)对基带表面粗糙度的影响,优化工艺参数获得了表面粗糙度Rn＜5 nm(5μm×5μm)的高质量表面,满足后续生长过渡层对哈氏合金基带的要求.抛光液中的柠檬酸在50℃左右分解成络合剂,可迅速沉淀金属离子,提高表面的活性.
关键词:
表面粗糙度
,
哈氏合金
,
电化学抛光
,
原子力显微镜
