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傅明喜 , 李岩 , 查燕青 , 宗华 , 卢永惠
表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.05.020
采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜,并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜表面形态的影响.试验结果表明,在一定的工艺条件下,通过对基片的加热控制可以获得单一方向生长的柱状晶结构薄膜.随着溅射功率的提高,NdFeB薄膜的沉积均匀性降低.
关键词: 薄膜 , 表面形态 , 加热控制 , 溅射功率
