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检索条件：作者=卢红亮
卢红亮 , 徐敏 , 张剑云 , 陈玮 , 任杰 , 张卫 , 王季陶
功能材料
原子层淀积(ALD)技术作为一种先进的薄膜制备方法近年来越来越得到重视,它能精确地控制薄膜的厚度和组分,实现原子层级的生长,生长的薄膜具有很好的均匀性和保形性,因而在微电子和光电子等领域有广泛的应用前景.本文综述了ALD技术的基本原理,及其在金属氧化物薄膜制备上的研究进展.
关键词: 原子层淀积(ALD) , 金属氧化物薄膜 , 高k材料
卢红亮 , 徐敏 , 丁士进 , 任杰 , 张卫
无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2006.01217
以Al(CH3)3和H2O为反应源, 在270℃用原子层淀积(ALD)技术在Si衬底上生长了Al2O3薄膜. 采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和傅...
关键词: Al2O3薄膜 , atomic layer deposition , X-ray photoemission spectroscopy (XPS)
无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.05.031
以Al(CH3)3和H2O为反应源,在270℃下用原子层淀积(ALD)技术在Si衬底上生长了Al2O3薄膜.采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)等分析手段对Al2O3薄膜的热稳定性进行了研究.结果表明刚淀积的薄膜中含有少量Al-...
关键词: Al2O3薄膜 , 原子层淀积(ALD) , X射线光电子能谱(XPS)
