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气相传输法生长超长AlN晶须

齐海涛 , 张丽 , 洪颖 , 史月增 , 郝建民

硅酸盐通报

研究了SiC上AlN晶须的气相生长技术.通过对生长温度和压力的调控,获得了六方柱状、台梯状和条带状三种形貌的AlN晶须.柱状晶须长度可达35 mm,直径lμm左右.通过扫描电镜和XRD分析,探讨了AlN晶须形态、结晶取向和生长条件之间的关系.低温、低压、较高饱和度条件下,AlN晶须沿[0001]方向生长,发育为六方细柱.随着生长温度提高,AlN晶须的优先生长面转向{1-102}面,形貌变为笔直的台梯状.继续增加压力,{10-10}面成为优先生长面,晶须呈现卷曲的条带状.

关键词: AlN , 晶须 , 物理气相传输法 , 晶体形态

高温化学气相沉积法制备致密碳化钽涂层

张丽 , 齐海涛 , 徐永宽 , 王利杰 , 史月增 , 刘金鑫

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.033

采用高温化学气相沉积法(CVD)在高纯高密石墨基片的表面沉积了碳化钽(TaC)涂层.通过研究气化温度、气体流量及沉积温度对TaC涂层表面质量的影响,确定了高温CVD法制备TaC涂层的工艺参数,最终获得高致密度的TaC涂层.

关键词: 高温CVD , TaC涂层 , 工艺条件

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