胡石琼
,
王向晖
,
刘恩庆
,
史芹
,
余文娟
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.03.007
采用光刻技术和反应离子刻蚀法(RIE)先在硅表面制备出一系列平面尺寸不同的微图形阵列,然后采用溶胶凝胶(sol-gel)浸渍提拉法在其表面制备出均匀致密、表面粗糙度一致的锐钛矿型纳米晶TiO2薄膜.利用扫描电镜(SEM)和免疫荧光标记实验研究图形尺寸对人脐静脉内皮细胞(HUVEC)附着形态的影响.实验结果发现在化学成分、细胞毒性、表面粗糙度都不对细胞附着形态产生影响的条件下,HUVEC对图形尺寸的响应为:当平面空间足够时细胞的附着伸展性能较好,而当没有足够的平面空间时细胞的附着伸展性能较差.
关键词:
光刻
,
反应离子刻蚀
,
溶胶凝胶法
,
图形化表面TiO2薄膜
,
细胞附着
