熊伟
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储向峰
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董永平
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毕磊
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叶明富
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孙文起
人工晶体学报
本文制备了几种含不同磨料(SiC、Al2O3不同粒径SiO2)的抛光液,通过纳米粒度仪分析磨料粒径分布,采用原子力显微镜观察磨料的粒径大小.研究了不同磨料对蓝宝石晶片化学机械抛光(CMP)的影响,利用原子力显微镜检测抛光前后蓝宝石晶片表面粗糙度.实验结果表明,在相同的条件下,采用SiC、Al2O3作为磨料时,材料去除速率与表面粗糙度均不理想；而采用含1％粒径为110 nm SiO2的抛光液,材料的去除速率最高为41.6 nm/min,表面粗糙度Ra=2.3 nm；采用含1％粒径为80 nm SiO2的抛光液,材料的去除速率为36.5 nm/min,表面粗糙度最低Ra=1.2 nm.
关键词:
蓝宝石
,
化学机械抛光
,
去除速率
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表面粗糙度
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磨料
王婕
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储向峰
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董永平
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白林山
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叶明富
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孙文起
稀有金属材料与工程
研究了抛光液中H2O2和水杨酸浓度对钌的抛光速率的影响.采用电化学方法和X射线光电子能谱分析了H2O2和水杨酸对金属钌腐蚀效果的影响;采用原子力显微镜观察钌表面的微观形貌.结果表明:水杨酸浓度的增加有利于金属钌表面钝化膜的形成,抛光速率值随之增加;随着H2O2浓度的不断增加,抛光速率不断增加,当H2O2质量分数大于3％时,抛光速率值随浓度的增加而降低.抛光后的金属钉表面平均粗糙度Ra为7.2 nm.
关键词:
钌
,
化学机械抛光
,
水杨酸
陈同云
,
朱小华
,
储向峰
,
葛秀涛
,
董永平
,
叶明富
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.11780
通过溶剂热法(无水乙醇)制备了Cu2+(0~6mol%)掺杂ZnO纳米棒粉体, 采用X射线衍射仪和扫描电镜对掺杂ZnO纳米粉体的晶体结构和微观形貌进行了表征. 研究了Cu2+掺杂比例、溶剂热反应温度及时间对材料气敏性能的影响; 考察ZnO(120℃, 10 h)和3mol% Cu2+掺杂ZnO(120℃, 10 h)粉体对应元件对甲醛、乙酸、甲苯、乙醇、丙酮、三甲胺等六种气体的气敏性能. 结果表明: 通过溶剂热法制备的ZnO粉体为纳米棒状结构, 棒长度和直径随Cu2+掺杂比例不同发生变化; 3mol% Cu2+掺杂ZnO(120℃, 10 h)样品对应元件对低浓度乙醇有很好的选择性, 在395℃工作温度下对1×10–3乙醇的灵敏度为380.5, 响应恢复时间分别为5 s和40 s, 对1×10–6乙醇的灵敏度可达4.2.
关键词:
ZnO; 纳米棒; 气敏性能
熊伟
,
储向峰
,
白林山
,
董永平
,
叶明富
表面技术
概述了化学机械抛光作用机制,着重阐述了3种常见衬底(α-Al2O3,SiC,Si)的化学机械抛光现状,主要从抛光工艺参数和抛光液组成(不同磨料、磨料粒径、氧化剂、络合剂、pH值等)对晶片抛光效果的影响展开研究,并指出了目前化学机械抛光存在的问题,进一步展望了LED衬底化学机械抛光的发展前景.
关键词:
衬底材料
,
化学机械抛光
,
抛光工艺
,
抛光浆料
陈同云
,
朱小华
,
储向峰
,
葛秀涛
,
董永平
,
叶明富
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.11780
通过溶剂热法(无水乙醇)制备了Cu2+(0～6mol％)掺杂ZnO纳米棒粉体,采用X射线衍射仪和扫描电镜对掺杂ZnO纳米粉体的晶体结构和微观形貌进行了表征.研究了Cu2+掺杂比例、溶剂热反应温度及时间对材料气敏性能的影响;考察ZnO(120℃,10 h)和3mol％ Cu2+掺杂ZnO(120℃,10h)粉体对应元件对甲醛、乙酸、甲苯、乙醇、丙酮、三甲胺等六种气体的气敏性能.结果表明:通过溶剂热法制备的ZnO粉体为纳米棒状结构,棒长度和直径随Cu2+掺杂比例不同发生变化;3mo1％ Cu2+掺杂ZnO(120℃,10 h)样品对应元件对低浓度乙醇有很好的选择性,在395℃工作温度下对1×10-3乙醇的灵敏度为380,5,响应和脱附时间分别为5s和40 s,对1×10 6乙醇的灵敏度可达4.2.
关键词:
ZnO
,
纳米棒
,
气敏性能
