李超
,
曹传宝
,
吕强
,
张家涛
,
项顼
,
朱鹤孙
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.01.002
在ITO导电玻璃基底上,采用二氰二胺分散在DMF(N,N-二甲基甲酰胺)中形成的溶液做沉积液,阴极电化学沉积了CNx薄膜.X射线光电子能谱(XPS)和傅立叶转换红外光谱(FTIR)的分析结果表明,沉积的CNx薄膜的N/C比为0.7左右,碳和氮主要以C-N、C=N的形式成键,有少量的碳和氮以C≡N的形式成键.拉曼光谱测试发现其存在多个吸收峰,对其进行分析的结果表明薄膜样品中含有α-C3N4和β-C3N4相的成分.电阻率测试表明,氮化碳薄膜的电阻率值达到1012~1013Ω·cm.
关键词:
氮化碳
,
电化学沉积
,
电阻率
吕强
,
荣剑英
,
赵磊
,
张红晨
,
胡建民
,
信江波
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.05.035
通过熔炼/研磨/热压方法制备了N型(Bi2Te3)0.90(Sb2Te3)0.05(Sb2Se3)0.05热压合金样品,测量了由不同工艺参数(热压温度、热压压力)制备的样品的Seebeck系数和电导率.分析了热压参数对热电性能产生的影响.特别是发现了在实验压力范围内增加热压压力会使热压样品的Seebeck系数和电导率都有所提高,这与Seebeck系数和电导率通常变化趋势相反的规律有显著差异,其结果对热压样品的电学性能提高有积极的影响.
关键词:
热电材料
,
热压
,
Seebeck系数
,
工艺参数
王志
,
吕强
,
李保安
,
王世昌
高分子材料科学与工程
研制成功一种对CO2具有促进传递作用的新型膜材料--聚乙烯胺.将此膜材料覆盖在聚砜膜表面制成复合膜.考察了复合膜的多层结构,复合膜对CO2、CH4、N2等的吸着性能,及复合膜对CO2和CH4的分离透过性能.结果表明,该复合膜对CO2有很高的吸着量,而对其他测试气体仅有极微弱的吸着;对CO2/CH4体系该复合膜具有良好的分离的能力.
关键词:
复合膜
,
聚乙烯胺
,
二氧化碳
,
甲烷
李超
,
曹传宝
,
吕强
,
张家涛
,
项顼
,
朱鹤孙
功能材料
首次采用二氰二胺的N,N二甲基甲酰胺(DMF)溶液做沉积液,用Si(100)和ITO导电玻璃做基底,在阴极上电化学沉积了CNx薄膜.X射线衍射(XRD)花样说明沉积的CNx薄膜为非晶结构.X射线光电子能谱(XPS)、傅立叶转换红外光谱(FTIR)分析结果表明CNx样品薄膜的N/C比为0.7左右,碳和氮主要以C-N、C=N的形式成键,有少量的碳和氮以C≡N的形式成键.电阻率测试显示,样品具有较高的电阻率,Si(100)和ITO导电玻璃基底上氮化碳薄膜的电阻率值范围分别为1011~1012Ω*cm和1012~1013Ω*cm.用Si(100)、ITO导电玻璃两种衬底,CNx薄膜的沉积速率、N含量和电阻率不同,说明衬底的选择对沉积过程和沉积膜的性能有重要影响.
关键词:
电化学沉积
,
氮化碳
,
CNx薄膜
,
电阻率
李超
,
曹传宝
,
朱鹤孙
,
吕强
,
张加涛
,
项顼
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.03.015
用1:1.5的三聚氯氰和三聚氰胺的饱和乙腈溶液为沉积液,在Si(100)衬底上室温常压下电化学沉积了CNx薄膜.用X射线光电子能谱(XPS)、傅立叶转换红外光谱(FTIR)、X射线衍射图谱(XRD)对沉积的CNx薄膜进行了测试和分析.XRD的衍射峰的结构数据与文献计算的类石墨相氮化碳的结构数据较为吻合.XPS结果表明沉积的薄膜中主要元素为C、N,且N/C=0.81,C1s和N1s的结合能谱中287.84eV的碳和400.00eV的氮是样品中碳氮的主体,以C3N3杂环的形式存在.FTIR光谱中在800cm-1、1310cm-1和1610cm-1的吸收峰也表明薄膜中存在C3N3环,和XPS能谱的分析结果一致.Teter和Hemley预言的g-C3N4在结构形式上和三聚氰胺的完美脱胺缩聚物是一样的,红外光谱和X射线光电子能谱表明在样品中存在三嗪环(C3N3),支持XRD的实验结果.这说明CNx薄膜中有类石墨相的C3N4晶体存在.
关键词:
电化学沉积
,
氮化碳
,
CNx薄膜
,
g-C3N4
吕强
,
李军
,
李国君
,
丰镇平
工程热物理学报
采用计算流体动力学软件CFX-TASCflow数值研究了带围带的动叶顶部间隙内泄漏流动对动叶流动效率以及下一级静叶进口气流角的影响特性.数值模拟了装有不同迷宫式汽封齿数时的动叶顶部间隙泄漏流动特性.揭示了泄漏流动不再是跨叶顶的横向流动,而是在叶顶间隙内沿着轴向流动.给出了动叶顶部间隙泄漏流场的结构,泄漏流与主流掺混后的流场对下游静叶性能的影响.研究结果表明泄漏流与动叶通道内的主流在动叶下游掺混后,改变了上半通道气流的流动方向,使这部分气流偏离设计工况,使下游静叶产生攻角损失.动叶顶部间隙泄漏流有较大的径向速度,在与主流掺混并进入动叶下游静叶后,会向着静叶中叶展处发展,改变静叶上半部流场的结构.动叶顶部间隙汽封齿数增多时这种效果就减小,静叶等熵效率的降低就越少,同时讨论了动叶顶部间隙泄漏流动对透平级气动性能的影响.
关键词:
迷宫式密封
,
透平级
,
泄漏流动
,
气动性能
,
数值模拟