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检索条件:作者=吴劲峰  

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N2流量对中频非平衡磁控溅射TiAlN薄膜结构及性能的影响

吴劲峰 , 何乃如 , 邱孟柯 , 吉利 , 李红轩 , 黄小鹏

功能材料

采用非平衡磁控溅射技术在AISI202不锈钢片和P(111)单晶硅基底上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜(FESEM)、三维轮廓仪、X射线衍射仪(XRD)、X射线电子能谱仪(XPS)、纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行了考查.结果表明,随着N2流量的升高,TiAlN薄膜的沉积速率降低,Al/...

关键词: 磁控溅射 , TiAlN薄膜 , N2流量 , 微观结构 , 硬度