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Mo电极上磁控反应溅射AlN薄膜

熊娟 , 顾豪爽 , 胡宽 , 吴小鹏

稀有金属材料与工程

采用射频反应磁控溅射法在Mo电极上沉积了AlN薄膜.研究了溅射气压、靶基距、溅射功率、衬底温度及N_2含量等不同工艺条件对AlN薄膜择优取向生长的影响.用XRD分析了薄膜的择优取向,用原子力显微镜、高分辨场发射扫描电镜表征了薄膜的形貌.实验结果表明,靶基距和溅射气压的减小,衬底温度及溅射功率的升高有...

关键词: AlN薄膜 , 射频磁控反应溅射 , c轴择优取向 , Mo电极