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衬底离子束表面氮化对ZnO薄膜性质的影响

采用射频磁控溅射法在抛光硅片上沉积了一系列ZnO薄膜样品.通过对薄膜样品X射线衍射谱的分析、原子力显微图的观察、吸收光谱和荧光光谱的研究,发现Si衬底的离子束表面氮化对ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性质有重要影响.在衬底温度为200℃、高纯氩氧比例为3:1、压强为1.5Pa的条件下,在经离子束表面氮化预处理的Si衬底上溅射沉积的ZnO薄膜,经450℃真空退火,成为高(0002)晶面取向的ZnO薄膜,并具有良好的光学性质.

关键词: 射频磁控溅射 , ZnO薄膜 , 离子束轰击 , 衬底表面氮化

分层沉积GaAs/SiO2纳米薄膜的结构和吸收光谱

朱慧群 , 丁瑞钦 , 王忆 , 吴桐庆

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.044

应用射频磁控溅射方法分别在抛光硅片和石英玻璃片上分层沉积了GaAs/SiO2纳米薄膜.通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)及吸收光谱的测试,发现衬底温度、退火、氢掺杂等制备工艺对分层沉积的GaAs/SiO2纳米薄膜的微观结构和光学性质有明显的影响.本文对相关机理作了探讨.

关键词: 射频磁控溅射 , GaAs/SiO2纳米薄膜 , 氢掺杂 , 吸收光谱

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分层沉积GaAs/SiO2纳米薄膜的结构和吸收光谱

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