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层厚比对磁控溅射Cr/CrN多层涂层组织和性能的影响

谈淑咏 , 吴湘君 , 张旭海 , 张炎 , 蒋建清 , 朱雪锋 , 江先彪

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2014.11.005

在超高真空磁控溅射仪上,制备了一系列具有相同调制周期不同层厚比的Cr/CrN涂层.用X射线衍射仪分析了涂层的相组成,通过扫描电镜观察了涂层形貌,采用显微硬度计测试了涂层硬度,在划痕仪上确定涂层和基体间的结合力,并利用磨损仪测量涂层的摩擦磨损性能.结果表明:调制周期为400nm时,当层厚比由2.0减小...

关键词: Cr/CrN多层涂层 , 层厚比 , 硬度 , 磨损率

不同氮分压下磁控溅射ZrN对钛/瓷结合的影响

王舒舒 , 吴湘君 , 光寒冰 , 周淑 , 张文艳 , 章非敏

稀有金属材料与工程

探讨不同氮分压下磁控溅射氮化锆(ZrN)涂层对纯钛与低熔瓷粉(Vita钛瓷粉系统)结合强度的影响.60个纯钛基片随机分为1个对照组和3个实验组.实验组分别在不同氮分压下(Ta组1.0×10-2Pa,Tb组5.0×10-2Pa和Tc组10.0×10-2Pa)溅射沉积ZrN涂层.纯钛试样经表面处理后在烤...

关键词: 氮化锆(ZrN) , 磁控溅射 , 氮分压 , 钛瓷 , 结合强度

氮流量比对直流反应磁控溅射制备氮化铬涂层组织和性能的影响

谈淑咏 , 张旭海 , 吴湘君 , 蒋建清

机械工程材料

采用直流磁控溅射法制备氮化铬涂层,研究了氮流量比对涂层相结构、表面形貌和硬度和涂层结合力的影响.结果表明:当氮流量比在30%~100%变化时,涂层主要由CrN相构成;随氮流量比增加,涂层晶粒形貌由三角锥转变为三角锥与球状共存,涂层变得致密,硬度得到提高;氮流量比对涂层结合力影响不大.

关键词: 直流磁控溅射 , 氮流量比 , 氮化铬涂层

基底负偏压对直流磁控溅射CrN薄膜择优取向及表面形貌的影响

谈淑咏 , 张旭海 , 李纪宏 , 吴湘君 , 蒋建清

功能材料

直流磁控溅射法制备不同基底负偏压下的CrN薄膜,采用XRD分析薄膜相结构,EDS分析薄膜表面成分,SEM观察薄膜表面形貌,并对偏压作用机制进行了探讨.结果表明,当Ar流量6ml/min、N2流量30ml/min时,在基底负偏压增大过程中,CrN薄膜始终由CrN相组成,但薄膜生长发生了(111)(-5...

关键词: 基底负偏压 , 择优生长 , 表面形貌 , 直流磁控溅射

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