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无氰水溶性金溶液电化学合成条件研究

彭芸 , 李德良 , 吴赣红 , 周兵

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2008.08.002

利用纯金板作阳极,不锈钢板作阴极,配位体Y为电解液,在阳离子膜电解槽中电解制备无氰水溶性金溶液,探索了该工艺各种参数和反应条件.研究结果表明,电化学合成该溶液的最佳条件为:阳极电解液Y浓度1~3mol/L,阴极电解液Y浓度0.1~1.0mol/L,槽电压 15~20V,温度30℃~40℃,电解时间3h;实验所得的无氰水溶性金溶液质量浓度为1.26g/L,电流效率可达到5%.

关键词: 无氰 , 水溶性金溶液 , 电化学合成 , 电流效率

一种无氰化学镀金工艺的研究

吴赣红 , 李德良 , 董坤 , 曹璟

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.03.020

为了确定一种无氰亚硫酸金钠化学镀金的最佳工艺条件,并使其具有工业上的可行性,利用镀层厚度测试和镀层结合力测试等性能检测手段,研究了该工艺中镀液组分和操作条件对镀层的影响.结果表明:当溶液中亚硫酸金钠(以金计)为 1~3g/L,亚硫酸钠为13g/L,按乙二胺/Au=(6~10)∶〖KG-*2/3〗1比例投入,磷酸氢二钾为30g/L,pH为8~9,温度为50~60℃时,可以得到光亮均匀的镀金层.

关键词: 无氰化学键 , 亚硫酸金钠 , 化学镀金

无铅化学镀镍稳定剂研究

董坤 , 李德良 , 吴赣红

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.03.005

为了研究出一种优良的无铅化学镀镍稳定剂,以传统的化学镀镍基础配方为前提,选择Na2S2O3、S1(一种含硫有机物)、CuSO4和苯并三氮唑作为稳定剂,比较了其对镀液的稳定性能、镀速和镀层性能等影响.结果表明:S1作为化学镀镍液的稳定剂,不仅能使镀液稳定性能良好,而且镀层性能优异.

关键词: 化学镀镍 , 无铅化 , 稳定剂 , 沉积速度

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