宋晓岚
,
曲鹏
,
王海波
,
吴雪兰
,
邱冠周
材料导报
纳米α-Al2O3粉体因其用于高强材料、电子陶瓷以及催化剂等而具有广泛的应用潜力,然而经高温煅烧难于获得真正纳米粒径的α-Al2O3粉体.综述了近年来国外合成纳米α-Al2O3粉末的2种工艺:一种为高温化学合成工艺,包括气相沉积法、激光烧蚀法、电弧等离子体法和水热法等;另一种为低温化学合成工艺,包括...
关键词:
α-Al2O3
,
纳米粉体
,
化学合成
宋晓岚
,
王海波
,
吴雪兰
,
曲鹏
,
邱冠周
中国稀土学报
以异丙醇铝和六水硝酸亚铈为铈源和铝源,采用溶胶-凝胶法制备了前驱体,并将前驱体在800℃下空气中焙烧2 h得到附载CeO2的高纯纳米γ-Al2O3.样品经X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、比表面积(BET)、化学成分和杂质含量分析,结果表明:合成的粉末为由γ-Al2O3和CeO2组成的混合物...
关键词:
溶胶-凝胶法
,
纳米γ-Al2O3
,
CeO2
,
CMP
,
分散稳定
,
稀土
宋晓岚
,
曲鹏
,
王海波
,
吴雪兰
,
邱冠周
材料导报
介孔材料因具有一系列独特性质而成为近年来材料研究的热点.对介孔材料的制备技术进行了简要介绍并分析了其影响因素,概括了常用的表征方法,进一步系统阐述了介孔材料的组装及应用,并展望了介孔材料研究的发展前景.
关键词:
介孔材料
,
制备
,
绢装
,
表征
,
应用
宋晓岚
,
吴雪兰
,
王海波
,
曲鹏
,
邱冠周
材料导报
随着半导体工业和集成电路(IC)工艺的飞速发展,化学机械抛光(CMP)作为目前唯一能提供超大规模集成电路(VLSI)制造过程中全面平坦化的一种新技术,已成为各国争相研究的热点.介绍了CMP技术的产生、优势、发展、理论、设备与耗材;着重介绍了SiO2浆料的国内外研究现状,并展望了CMP技术及SiO2浆...
关键词:
化学机械抛光(CMP) SiO2 浆料
宋晓岚
,
王海波
,
曲鹏
,
吴雪兰
,
邱冠周
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2005.05.017
为确定配制稳定的纳米γ-Al2O3化学机械抛光(CMP)浆料的工艺条件,通过润湿性、Zeta电位及黏度的测定,研究了溶液pH值及添加分散剂等因素对水相体系纳米γ-Al2O3悬浮液分散稳定性能的影响.结果表明,在纳米γ-Al2O3固含量为6%的浆料中,加入异丙醇胺作为分散剂,其用量为γ-Al2O3粉体...
关键词:
纳米γ-Al2O3
,
CMP浆料
,
分散剂
,
分散稳定
宋晓岚
,
吴雪兰
,
曲鹏
,
王海波
,
邱冠周
硅酸盐通报
doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2005.01.001
通过测定纳米SiO2水悬浮液的Zeta电位和吸光度,探讨了不同pH值、不同表面活性剂种类及浓度对纳米SiO2水相体系分散稳定性的影响,并分析其作用机理.结果表明:Zeta电位与吸光度有良好的对应关系,Zeta电位绝对值越高,吸光度越大,则体系分散稳定越好;pH值、表面活性剂种类及加入量是影响纳米Si...
关键词:
纳米SiO2水悬浮液
,
表面活性剂
,
分散稳定
,
Zeta电位
宋晓岚
,
邱冠周
,
王海波
,
吴雪兰
,
曲选辉
材料导报
以硝酸铝为原料,碳酸铵为沉淀剂,通过加入少量表面活性剂,采用化学沉淀法获得前驱体,经热处理得到高纯活性γ型纳米氧化铝.研究了合成过程中的工艺影响因素,并使用DTA、XRD、BET、TEM、激光粒度及纯度分析等多种方法对γ-Al2O3的性能进行了表征.结果表明,所获得的γ-Al2O3属立方晶系,空间群...
关键词:
化学沉淀法
,
纳米颗粒
,
高纯活性γ-Al2O3
,
性能表征
宋晓岚
,
吴雪兰
,
王海波
,
曲鹏
,
邱冠周
,
曲选辉
稀土
doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2004.06.003
以Al(NO3)3·9H2O和Ce(NO3)3·6H2O为原料,氨水为pH值调节剂,并加入少量表面活性剂PEG4000,采用化学共沉淀法制备了前驱体,前驱体经高温热处理得到含25%(质量分数)CeO2的CeO2/γ-Al2O3 复合纳米晶.通过正交试验,获得了共沉淀的优化条件:pH值为9～10,反应...
关键词:
CeO2/γ-Al2O3
,
复合纳米晶
,
共沉淀法
,
性能表征
