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氢离子注入GaAs晶片表面剥离机理

郭育林 , 倪敏璐 , 周嘉 , 竺士炀 , 黄宜平

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.01.012

为了更深入的了解GaAs经氢离子注入后的剥离特性,实验研究了GaAs晶片经6×1016 /cm2剂量氢离子以不同能量注入,再经过不同温度和不同时间的退火过程后,晶片表面的剥离情况.研究表明:注入能量小的晶片较容易表面剥离,当注入能量大到一定程度,表面将不会出现剥离的现象;在相同的注入能量情况下,Ga...

关键词: GaAs , 智能剥离 , 异质结构材料 , 氢离子注入

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