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H2O2处理H4SiW12O40/SiO2光催化降解有机染料的研究

周国辉 , 杨志远 , 杨赟 , 冯传启 , 杨水金

稀有金属 doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.06.022

采用溶胶-凝胶法将Keggin型H4SiW12O40负载在SiO2上,并用30％H2O2溶液对其进行敏化,制得H4SiW12O40/SiO2/H2O2光催化剂,分别利用傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)、X射线衍射(XRD)对该光催化剂进行表征分析,结果表明H4SiW12O40高度分散在SiO2上,...

关键词: 硅钨酸 , 甲基橙 , SiO2 , 光催化 , 降解

黄铜静态腐蚀脱Zn层引起拉应力的研究

吕宏 , 周国辉 , 高克玮 , 褚武扬

腐蚀学报（英文） doi:10.3969/j.issn.1002-6495.1999.05.003

研究了黄铜在静态腐蚀过程中表面疏松层的应力状态.通过测量自由端挠度的变化及用SEM技术测量脱Zn层的厚度,计算了在脱Zn层和基体界面处产生的拉应力,其稳定值约等于黄铜屈服强度的1/5.在SCC过程中这个附加的拉应力将协助外应力促进位错发射和运动,从而SCC裂纹形核.

关键词: 黄铜 , 自然腐蚀 , 脱Zn层 , 拉应力

黄铜静态腐蚀脱Zn层引起拉应力的研究

品宏 , 周国辉 , 高克玮等

腐蚀学报（英文）

研究了黄铜在静态腐蚀表面疏松层的应力状态，通过测量自由端挠度的变化及用ＳＥＭ技术测量脱Ｚｎ层的厚度，计算了在脱Ｚｎ层和基体界面处生产的拉应力，其稳定值约等于黄铜屈服强度的１／５，在ＳＣＣ过程中这个附加的拉应力将协助外应力促进位错发射和运动，从而ＳＣＣ裂纹形核。　

关键词: 黄铜 , brass , tensile stress generated dezinc layer , null

出版年份

2015年2篇

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