宋学萍
,
周桃飞
,
赵宗彦
,
孙兆奇
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2003.05.026
用直流溅射法在Si基片上制备了250nm厚的Al膜,并在不同退火温度下进行退火处理,用X射线衍射和光学干涉相位移法对薄膜的微结构及应力随退火温度的变化进行了研究.结构分析表明:退火后的Al膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;随着退火温度由20℃升高到400℃,薄膜的平均晶粒尺寸由22.8nm增加到...
关键词:
溅射Al薄膜
,
微结构
,
应力
,
退火温度
陈春霞
,
潘亚林
,
章建辉
,
钱天
,
周桃飞
,
李慧玲
低温物理学报
doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2004.04.009
研究了Al和Sn离子掺杂对层状钙钛矿结构锰氧化物La1.2Ca1.8Mn2O7输运性质的影响.发现Al,Sn掺杂后样品电阻率增加,并且半导体导电区域电阻值与可变程跃迁导电模型符合得较好;同时掺杂样品金属-绝缘转变温度逐步降低,最大磁电阻值比未掺杂样品增大.
关键词:
锰氧化物
,
掺杂
,
输运性质
