欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(6)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

复合物p-C6H4F2…NH3(ND3)外部振动的共振双光子电离光谱

胡义华 , 刘美希 , 周金运 , 王小涓 , 陈丽 , 杨新 , 杨世和

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2000.02.011

利用共振光电离技术和飞行时间质谱技术,观察到了复合物p-C6H4F2…NH3(ND3)的共振双光子电离光谱。光谱分析表明,复合物分子间的伸缩振动频率为86.4~cm-1; 由复合物的光解离机理以及伸缩模的失谐参数与键能的关系,获得了复合物电子激发态S1和基态S0的键能信息。Ab initio 计算表明,p-C6H4F2…NH3(ND3) 复合物的几何结构是:NH3分子中的N原子位于垂直于p-C6H4F2分子环面的对称轴(Z轴)上,距环面的高度为0.352~nm; NH3的C3轴与p-C6H4F2的对称轴夹角是52.5°,且一个氢原子朝向环面;NH3可绕p-C6H4F2分子的Z轴近似的自由转动。键能计算值和预计存在的内转动与实验吻合。

关键词: 共振多光子电离光谱 , 分子间的振动 , 范德瓦尔斯键能

InGaAs-APD门模单光子探测及其应用

周金运 , 彭孝东 , 林清华 , 胡义华 , 廖常俊 , 刘颂豪

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2004.04.001

对单光子探测使用InGaAs-APD并采用门模控制的核心问题进行了阐述,总结了探测器件的特性和门模控制系统的特点,并归纳了在这种探测方式中实际存在的问题和可能解决的方法,最后着重介绍它在量子保密通信中的应用.

关键词: 光电子学 , InGaAs-APD , 单光子 , 门模 , 雪崩抑制 , 量子保密通信

用于光刻的准分子激光束整形及其研究进展

林清华 , 宋超 , 王鲁宾 , 周金运

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2007.04.003

阐述了在光刻应用中准分子激光束整形的原因和整形前后光束能量空间分布结果,并对建立准分子激光束整形的理论模型--高斯-谢尔模型(GSM)的方法进行了介绍.总结和分析了微透镜阵列和衍射相位光栅等光束均质器用于光刻激光束整形的优缺点,包括它们的整形能力、能量损失、干涉效应以及波前和振幅均匀化控制等;同时对主要整形器件的原理、特性和进展情况进行了简要综述.

关键词: 激光技术 , 准分子激光束整形 , 光刻 , 微透镜阵列 , 衍射相位光栅

印刷电路板激光投影成像照明系统均匀性分析

裴文彦 , 周金运 , 梁国均 , 林清华

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2009.03.020

针对351 nm波长的XeF准分子激光器,自行设计了用于高精度、高产率、大面积且常规抗蚀剂曝光的印刷电路板(PCB)激光投影成像照明系统.根据准分子激光的部分相干平顶高斯光束(PCFGB)理论模型,对微透镜阵列器(MLA)均束的衍射特性进行了理论分析.由PCFGB分布函数、稳定光强输出的衍射角和菲涅耳-基尔霍夫衍射积分公式,定量分析衍射效应对MLA均束的影响.理论计算表明,微透镜边缘发生菲涅耳衍射和微透镜产生的多光束干涉都能引起光振幅调制,只不过衍射产生的尖峰更明显地出现在光束边缘.同时,由数值积分得到的PCFGB曲线,发现9×9 MLA均束器既能保证多个微透镜产生光束叠加的均匀性,又最大程度地减少了衍射和多光束干涉效应.通过采取加正六边形光阑的方法,不仅能满足大面积无缝扫描光刻的需要,而且能剪裁由衍射引起的光束边缘尖峰.由ZEMAX光学设计软件模拟其效果,显示其加工窗不大于±2%.

关键词: 激光技术 , 均束器 , 激光投影成像光刻 , XeF准分子激光 , 印刷电路板 , 加工窗

投影光刻系统中的掩模硅片相关识别对准技术

雷亮 , 李浪林 , 周金运 , 王衢

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2012.06.018

分析图像相关识别中的纯相位匹配滤波器的模式识别方法,利用该滤波器的相关识别位图计算算法,及其所具有的相干峰尖锐特性与高度旋转敏感特性,分别求取得光刻套刻过程中,掩模板和硅片基板对准标记的相对平移坐标与旋转坐标的精密量化驱动值.将此算法的实施单元建立在一套成型的大面积投影光刻系统中,使得该系统的对位精度与对位效率显著地提高.

关键词: 激光技术 , 光刻 , 套刻技术 , 模式识别 , 纯相位匹配滤波器

PCB激光投影成像扫描技术分析

林清华 , 李文静 , 周金运

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2007.03.015

通过对印制电路板激光投影成像技术使用的步进重复扫描和六边形无接缝扫描方法进行比较,揭示了六边形无接缝扫描技术的优越性能,对六边形无接缝扫描技术的均匀曝光过程及其实现的原理进行了阐述,并对影响扫描成像的曝光量和曝光速度等因素进行了分析.

关键词: 激光技术 , 激光投影成像 , 六边形无接缝扫描 , 曝光 , 印制电路板

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词