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RF反应溅射法制备NiFe/Al2O3/Co磁性隧道结研究

张万里 , 彭斌 , 唐晓莉 , 蒋洪川 , 张怀武

功能材料

采用RF反应溅射法制备了室温下TMR值达6.5%的NiFe/Al2O3/Co磁性隧道结.样品制备采用一系列的掩模,Al2O3层的制备采用RF反应溅射并原位热氧化方法,隧道结的面积为0.2mm×0.2mm.样品的Ⅰ-Ⅴ特性曲线说明了样品中隧道效应的存在,利用XPS分析了样品界面特性及样品成分随膜厚的变化.

关键词: 磁性隧道结 , RF反应溅射 , 隧道磁电阻

MoO3掺杂对高磁导率NiCuZn铁氧体性能的影响

苏桦 , 张怀武 , 唐晓莉 , 向兴元

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2004.03.011

为获得具有高磁导率、高居里温度的NiCuZn铁氧体材料,研究了MoO3掺杂对NiCuZn铁氧体微观结构及电磁性能的影响.少量MoO3掺杂可使铁氧体晶粒尺寸增大,均匀性改善,起始磁导率提高,而居里温度仅有较小幅值的下降.但掺杂过量时,晶粒中气孔率增加,起始磁导率下降,损耗也大为增加.在配方(Ni0.28Cu0.1Zn0.62)Fe2.04O4中,当MoO3掺杂为0.12wt%时,可获得起始磁导率为2650,而居里温度高达到105℃的铁氧体材料.

关键词: NiCuZn铁氧体 , 起始磁导率 , 居里温度 , MoO3掺杂

纳米晶化对CoNbZr薄膜结构及阻抗的影响

蒋向东 , 张怀武 , 文歧业 , 张万里 , 唐晓莉

功能材料

采用独特的快速循环纳米晶化技术,对直流磁控溅射制备的非晶CoNbZr软磁膜,进行纳米晶化.研究了在不同的纳米晶化工艺条件下,薄膜的微观结构和阻抗性能.CoNbZr软磁薄膜晶粒细化到30nm,阻抗值从20Ω增加到100Ω(1400MHz),阻抗共振峰向低频移动200MHz左右,极大改善了薄膜的软磁性能.

关键词: 薄膜 , 软磁膜 , 纳米晶化

半金属 Fe3O4薄膜的制备工艺探索

唐晓莉 , 张怀武 , 苏桦 , 钟智勇

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2006.00741

半金属材料Fe3O4是一种新型的功能自旋电子材料, 由于其具有百分之百的自旋极化率而备受关注. 但由于铁元素存在多种价态的氧化物, 使得制备单一成分的Fe3O4非常困难, 因而本文着重对磁控反应溅射制备单一成分的Fe3O4薄膜进行了研究, 探索了晶化温度对薄膜结构的影响, 并通过引入缓冲层Ta对其性能进行改善, 得到了反应溅射制备半金属Fe3O4的最优条件. 另外, 通过对所制备的Fe3O4薄膜磁电阻效应的测试, 发现多晶Fe3O4具有同单晶Fe3O4薄膜类似的负磁电阻效应, 因此有望将其应用到自旋电子器件中.

关键词: 半金属材料 , spintronic material , Fe3O4 thin film

CoNbZr非晶软磁薄膜晶化动力学研究

蒋向东 , 张怀武 , 文歧业 , 钟智勇 , 杨争 , 唐晓莉

功能材料

采用DSC热分析技术,结合XRD、TEM和AFM实验,对磁控溅射制备的Co85.5Nb8.9Zr5.6非晶合金软磁薄膜进行了变温和等温晶化动力学的研究.研究结果表明:升温晶化时,薄膜的晶化的表观激活能为99.82kJ/mol;局域激活能随晶化度增加;在等温晶化过程中,平均激活能为88.51kJ/mol,Avrami指数1.17~1.39,晶化行为主要是一维表面晶化,晶核长大受扩散控制的过程.

关键词: 晶化动力学 , 纳米晶 , 软磁薄膜

基于非晶软磁层的巨磁电阻单元性能研究

张祖刚 , 张万里 , 文岐业 , 唐晓莉 , 张怀武

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.01.010

采用剥离工艺制备了单元大小为10μm×18μm的CoNbZr/Co/Cu/Co和NiFe/Co/Cu/Co多层膜结构的3×3自旋阀单元阵列,并测试了自旋阀单元的静态和动态巨磁电阻特性.结果表明CoNbZr层对快速磁场变化具有良好的线性响应特性.与NiFe/Co/Cu/Co自旋阀单元相比,微米尺度的CoNbZr/Co/Cu/Co自旋阀单元具有更良好的自旋电子特性,可以应用到包括MRAM器件在内的自旋电子器件中.

关键词: 自旋阀 , 巨磁电阻 , 非晶薄膜

图案化磁记录介质

钟智勇 , 荆玉兰 , 唐晓莉 , 张怀武

材料导报

在分析传统磁记录在高密度化过程中遇到的困难的基础上,指出了未来超高密度磁存储的方向,着重分析了图案化磁记录(patterned magnetic recording)对介质的要求,并简要介绍了图案化介质的制备技术.

关键词: 超高密度信息存储 , 图案化介质 , 纳米结构

半金属Fe3O4薄膜的制备工艺探索

唐晓莉 , 张怀武 , 苏桦 , 钟智勇

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.03.037

半金属材料Fe3O4是一种新型的功能自旋电子材料,由于其具有百分之百的自旋极化率而备受关注.但由于铁元素存在多种价态的氧化物,使得制备单一成分的Fe3O4非常困难,因而本文着重对磁控反应溅射制备单一成分的Fe3O4薄膜进行了研究,探索了晶化温度对薄膜结构的影响,并通过引入缓冲层Ta对其性能进行改善,得到了反应溅射制备半金属Fe3O4的最优条件.另外,通过对所制备的Fe3O4薄膜磁电阻效应的测试,发现多晶Fe3O4具有同单晶Fe3O4薄膜类似的负磁电阻效应,因此有望将其应用到自旋电子器件中.

关键词: 半金属材料 , 自旋电子材料 , Fe3O4薄膜

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