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磁控溅射Ni/Au/Pt多层膜红外发射率特征研究

黄智斌 , 周万城 , 唐秀凤 , 罗发 , 朱冬梅

稀有金属材料与工程

研究了表面镀Ni/Au/Pt多层膜的K424合金在热处理前后红外发射率的变化及变化机理.XRD分析结果表明,在热处理后,试样表面主要由Au0.7Cr0.3和Pt组成,说明合金基体元素在600℃下会向外扩散.SEM分析表明,粗糙表面镀金膜的试样在热处理后,表而薄膜产生了细小的裂痕,但在表面没有探测到氧化物.而抛光表面镀金膜的试样,其表面薄膜十分完整.通过SR5000光谱辐射计量仪测量合金的红外发射率,结果表明,合金的表面状态和热处理对红外发射率均有较大影响.

关键词: 镍基高温合金 , Ni/Au/Pt多层膜 , 红外发射率

溅射气压对直流磁控溅射ZnO:Al薄膜的影响

孙可为 , 周万城 , 黄珊珊 , 唐秀凤

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.12213

采用直流磁控溅射法在玻璃基片上沉积ZnO:Al(AZO)薄膜, 溅射气压为0.2~2.2 Pa. 通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针和紫外–可见分光光度计对AZO薄膜的相结构、微观形貌和电光学性质进行了表征. 结果表明: 薄膜的沉积速率随着溅射气压的增大而减小, 变化曲线符合Keller-Simmons模型; 薄膜均为六角纤锌矿结构, 但择优取向随着溅射气压发生改变; 溅射气压对薄膜的表面形貌有显著影响; 当溅射气压为1.4 Pa 时, 薄膜有最低的电阻率(8.4×10-4 Ω·cm), 高的透过率和最高的品质因子Q.

关键词: ZnO:Al薄膜; 直流磁控溅射; 溅射气压; 光电性质

K424合金镀金膜后红外发射率变化

黄智斌 , 朱冬梅 , 唐秀凤 , 周万城 , 罗发

稀有金属材料与工程

研究了表面镀金膜的K424合金在热处理前后红外发射率的变化和变化机制.XRD分析结果表明,在热处理后基体金属元素扩散到金膜中,并主要形成了Cr在Au中的固溶体-Au0.7Cr0.3.EDXS分析表明,粗糙表面镀金膜的试样在热处理后,表面主要形成了基体金属元素的氧化物;而抛光表面镀金膜的试样,其表面仍为金膜.通过SR5000光谱辐射计量仪测量合金的红外发射率,结果表明,合金的表面状态和热处理对红外发射率均有较大影响.

关键词: 镍基高温合金 , 金膜 , 红外发射率

溅射气压对直流磁控溅射ZnO∶Al薄膜的影响

孙可为 , 周万城 , 黄珊珊 , 唐秀凤

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.12213

采用直流磁控溅射法在玻璃基片上沉积ZnO∶Al(AZO)薄膜,溅射气压为0.2~2.2 Pa.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针和紫外-可见分光光度计对AZO薄膜的相结构、微观形貌和电光学性质进行了表征.结果表明:薄膜的沉积速率随着溅射气压的增大而减小,变化曲线符合Keller-Simmons模型;薄膜均为六角纤锌矿结构,但择优取向随着溅射气压发生改变;溅射气压对薄膜的表面形貌有显著影响;当溅射气压为1.4 Pa时,薄膜有最低的电阻率(8.4×10-4 Ω·cm),高的透过率和最高的品质因了Q.

关键词: ZnO:Al薄膜 , 直流磁控溅射 , 溅射气压 , 光电性质

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