夏焕雄
,
向东
,
牟鹏
,
姜崴
,
葛研
,
王丽丹
人工晶体学报
等离子辅助化学气相沉积(PECVD)腔室的气流分布、温度分布是影响薄膜沉积工艺均匀性以及沉积速率的重要原因之一.本文对PECVD腔室气流建立连续流体和传热模型,研究了腔室内流场和温度分布特性；讨论了四种不同稳流室结构的PECVD腔室,在加热盘恒温400℃、质量流量5000 sccm、抽气口压力133...
关键词:
等离子辅助化学气相沉积
,
多孔介质
,
气流仿真
,
稳流室
王伟
,
向东
,
杨为
,
夏焕雄
,
张瀚
人工晶体学报
为确定某种新型刻蚀机最优的晶圆与喷淋头间距(Gap),通过CFD仿真分析气体在不同Gap腔室内的物质输运分布,并结合乙醇环境下HF酸刻蚀SiO2工艺的物理化学过程,建立了刻蚀速率估算公式,以此分析了不同Gap腔室的刻蚀速率及刻蚀均匀性,最终获得了具有最佳刻蚀效果的腔室结构.研究分析表明:Gap较小时...
关键词:
刻蚀腔室
,
流场仿真
,
均匀性
,
刻蚀速率
