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PECVD腔室热流场数值仿真研究

夏焕雄 , 向东 , 牟鹏 , 姜崴 , 葛研 , 王丽丹

人工晶体学报

等离子辅助化学气相沉积(PECVD)腔室的气流分布、温度分布是影响薄膜沉积工艺均匀性以及沉积速率的重要原因之一.本文对PECVD腔室气流建立连续流体和传热模型,研究了腔室内流场和温度分布特性；讨论了四种不同稳流室结构的PECVD腔室,在加热盘恒温400℃、质量流量5000 sccm、抽气口压力133...

关键词: 等离子辅助化学气相沉积 , 多孔介质 , 气流仿真 , 稳流室