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溅射气压对直流磁控溅射ZnO:Al薄膜的影响

孙可为 , 周万城 , 黄珊珊 , 唐秀凤

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.12213

采用直流磁控溅射法在玻璃基片上沉积ZnO:Al(AZO)薄膜, 溅射气压为0.2~2.2 Pa. 通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针和紫外–可见分光光度计对AZO薄膜的相结构、微观形貌和电光学性质进行了表征. 结果表明: 薄膜的沉积速率随着溅射气压的增大而减小, 变化曲线符合Keller-Simmons模型; 薄膜均为六角纤锌矿结构, 但择优取向随着溅射气压发生改变; 溅射气压对薄膜的表面形貌有显著影响; 当溅射气压为1.4 Pa 时, 薄膜有最低的电阻率(8.4×10-4 Ω·cm), 高的透过率和最高的品质因子Q.

关键词: ZnO:Al薄膜; 直流磁控溅射; 溅射气压; 光电性质

铁硅铝磁粉芯的磁导率和损耗性能

金丹 , 孙可为

材料科学与工程学报

采用球磨制粉和模压成形方法制备铁硅铝磁粉芯,研究了退火温度、成型压力、磁粉粒度和磁粉热处理对磁粉芯的磁导率和损耗性能的影响。结果表明,提高退火温度和成型压力,磁粉芯的磁导率增大,损耗减小。磁粉粒度越小,磁粉芯的磁导率和磁芯损耗越低。磁粉在560℃热处理1小时后,磁粉芯的磁导率和损耗均降低。

关键词: 铁硅铝磁粉芯 , 磁导率 , 损耗 , 退火处理

铁硅铝磁粉芯的磁特性研究

金丹 , 孙可为

材料开发与应用 doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2009.01.007

采用球磨制粉和模压成型方法制备了铁硅铝磁粉芯,并研究了其频率特性和直流叠加特性.结果表明,在测量的频率范围内(1~500 kHz),铁硅铝磁粉芯有效磁导率基本保持不变,而品质因数随频率的增加而增大,达到峰值后缓慢下降.在相同频率下,随着粉料粒度的减小,磁粉芯的有效磁导率降低,品质因数增加.铁硅铝磁粉芯具有良好的直流叠加特性,当直流偏磁场强度为1000e时,其有效磁导率变化率小于50%,且减小磁粉粒度可改善磁粉芯的直流叠加特性.

关键词: 磁粉芯 , 品质因数 , 有效磁导率 , 直流叠加特性

镍基合金高温扩散阻挡层的研究进展

孙可为 , 周万城

材料导报

介绍了镍基合金高温扩散阻挡层的作用机理,重点综述了金属和陶瓷扩散阻挡层的国内外研究进展,比较了两类扩散阻挡层的差别,尤其是元素扩散阻挡能力和界面结合强度的差别,最后指出了镍基合金高温扩散阻挡层的发展方向.

关键词: 扩散阻挡层 , 镍基合金 , 元素互扩散 , 界面结合强度

溅射气压对直流磁控溅射ZnO∶Al薄膜的影响

孙可为 , 周万城 , 黄珊珊 , 唐秀凤

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.12213

采用直流磁控溅射法在玻璃基片上沉积ZnO∶Al(AZO)薄膜,溅射气压为0.2~2.2 Pa.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针和紫外-可见分光光度计对AZO薄膜的相结构、微观形貌和电光学性质进行了表征.结果表明:薄膜的沉积速率随着溅射气压的增大而减小,变化曲线符合Keller-Simmons模型;薄膜均为六角纤锌矿结构,但择优取向随着溅射气压发生改变;溅射气压对薄膜的表面形貌有显著影响;当溅射气压为1.4 Pa时,薄膜有最低的电阻率(8.4×10-4 Ω·cm),高的透过率和最高的品质因了Q.

关键词: ZnO:Al薄膜 , 直流磁控溅射 , 溅射气压 , 光电性质

Maxwell-Garnett理论研究纳米铜膜的光学性质

孙可为 , 金丹 , 许启明

材料导报

为了寻求一种合适的研究纯金属纳米薄膜光学性质的方法,采用有效介质理论中的Maxwell-Garnett理论计算了纳米铜膜对光的反射、透射及吸收情况.结果表明,Maxwell-Garnett理论的计算结果与实验值在定性上较符合,适于对纯金属纳米薄膜的光学性质进行理论研究.

关键词: 纳米 , 光学性质 , Maxwell-Gamett理论 , 金属薄膜

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