顾锦华
,
汪浩
,
兰椿
,
钟志有
,
孙奉娄
,
杨春勇
,
侯金
人工晶体学报
以不同钛掺杂含量的氧化锌陶瓷靶作为溅射源材料,采用射频磁控溅射工艺在玻璃基片上沉积了Ti掺ZnO(TZO)透明导电薄膜,通过XRD、XPS、分光光度计和霍尔效应测试系统,研究了钛掺杂含量对TZO薄膜微观结构和光电特性的影响.结果表明:所有TZO薄膜均为六角纤锌矿结构,并且具有(002)择优取向,钛掺...
关键词:
磁控溅射
,
ZnO∶Ti
,
透明导电薄膜
孙奉娄
,
戴茂飞
材料保护
电解液微弧氮化工艺简单,过去未见用其制备AlN膜的报道。采用电解液微弧氮化工艺在纯铝基片上制备了AlN陶瓷膜,利用正交试验优化工艺,研究了最优工艺制备的膜层的物相、形貌,并探讨了占空比、放电频率对膜层硬度、绝缘电阻、耐压值的影响。结果表明:正交试验优化的工艺为100mL超纯水中CO(NH2)235....
关键词:
电解液微弧氮化
,
AlN陶瓷膜
,
纯铝材
,
电解液浓度
,
放电参数
,
性能
钟志有
,
张腾
,
顾锦华
,
孙奉娄
人工晶体学报
采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了掺锡氧化铟(ITO)透明导电薄膜,通过XRD、XPS、四探针仪和分光光度计等测试方法,研究了沉积速率对ITO薄膜微观结构和光电性能的影响.实验结果表明:ITO样品为具有(222)择优取向的立方锰铁矿结构,其晶体结构和光电性能明显受到沉积速率的影响.当沉积速率为4...
关键词:
透明导电薄膜
,
掺锡氧化铟
,
晶体结构
,
光电学性能
钟志有
,
顾锦华
,
孙奉娄
,
杨春勇
,
侯金
人工晶体学报
采用射频磁控溅射方法在玻璃基片上制备了镓掺杂氧化锌(Ga∶ ZnO)透明导电薄膜,通过XRD、XPS、四探针仪和分光光度计等表征技术,研究了衬底温度对Ga∶ ZnO薄膜结构、组分、光学和电学性质的影响.结果表明:所有样品均为具有(002)择优取向的高质量透明导电薄膜,其晶体结构和光电性能与衬底温度密...
关键词:
氧化锌薄膜
,
磁控溅射
,
光电性能
孙奉娄
,
张龙
材料保护
为了经济、有效、准确地在线测量光学薄膜厚度,采用射频磁控反应溅射法在玻璃衬底上制备TiO2薄膜.用自制的简易监测系统对TiO2薄膜在生长过程中的沉积速率进行了即时测量,研究了射频功率、气体流量、工作气压等工艺参数对TiO2薄膜沉积速率的影响规律.结果表明:沉积速率监测系统对膜厚变化反应灵敏,能够实时...
关键词:
磁控溅射
,
TiO2薄膜
,
沉积速率
,
薄膜监测系统
,
石英晶体振荡法
,
工艺参数
左雄
,
孙奉娄
,
樊英
表面技术
目的 根据当前活塞环陶瓷膜工艺中存在的问题,对渗陶电源进行改进,使处理的活塞环达到工业应用要求的同时提高处理效率.方法 分析用PECVD方法制备陶瓷膜工艺中影响成膜的主要因素,以这些因素为依据,通过改变渗陶电源放电的各种参数,比较在不同参数下处理的效果.结果 在最佳组合的放电参数下,这种改进后电源在...
关键词:
等离子体
,
PECVD
,
陶瓷膜
,
A2K电源
何翔
,
孙奉娄
,
周武庆
材料科学与工程学报
用交流脉冲等离子体对聚四氟乙烯进行了表面改性实验.利用XPS研究了处理后样品表面的化学成分、电子结构和结合能.结果表明:交流脉冲等离子体作用于聚四氟乙烯样品表面将发生C-F键断裂,表层氟含量减少,氧含量增加;由于大量极性基团的引入,使得PTFE亲水性能得到改善.同时讨论了不同交流脉冲占空比对改性效果...
关键词:
交流脉冲等离子体
,
聚四氟乙烯
,
表面改性
,
XPS分析
万维威
,
何翔
,
孙奉娄
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.01.013
应用射频磁控溅射技术在普通载玻片上镀制一层均匀的Ti-O薄膜,采用红外光谱仪对其进行红外吸收光谱分析,采用紫外光-可见光分光光度计测量其吸光度,得到了在不同O含量条件下制备的Ti-O薄膜对紫外光-可见光的吸收情况,并进行了比较.实验结果表明:随着O含量的逐渐减少,Ti-O薄膜的结构从TiO_2逐渐转...
关键词:
Ti-O薄膜
,
射频磁控溅射
,
禁带宽度
,
红移