孙现科
,
周小东
,
周思华
,
王少辉
,
蒋卫华
,
孙春梅
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.07.009
目的:从原子水平探究Mn掺杂SiC薄膜的磁性起源。方法采用射频磁控溅射技术制备不同掺杂浓度的Mn掺杂SiC薄膜,并采用X射线衍射技术、X光电子能谱、同步辐射X射线近边吸收精细结构技术、物理性质测试系统对薄膜的结构、组分和磁性能进行研究。结果晶体结构和成分分析表明,1200℃退火后的薄膜形成了3 C-...
关键词:
磁控溅射
,
SiC
,
Mn掺杂
,
铁磁性
,
缺陷
周小东
,
周思华
,
孙现科
材料热处理学报
利用金属蒸发真空多弧离子源(MEVVA源)注入机,将Au离子注入到高纯石英玻璃衬底中来制备Au纳米颗粒,Au离子注入的加速电压分别为20、40和60 kV,注入剂量为1×1017 ions/cm2,随后将注入样品在普通管式退火炉中700 ~ 1000℃退火处理.研究了注入条件和热退火参数对Au纳米颗...
关键词:
热退火
,
离子注入
,
Au纳米颗粒
,
生长
,
光学性能