孙荣幸
,
张同俊
,
戴伟
,
李松
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.02.021
利用射频磁控溅射技术在硅和钢片上沉积了TiB2涂层.采用场发射电子扫描显微镜(FESEM),小掠射角x射线衍射(GAXRD)及X射线光电子能谱(XPS)分别研究了涂层的横截面形貌,晶体结构以及涂层中的元素和化学状态.同时,对涂层的显微硬度和残余应力进行了表征.结果表明, 利用射频磁控溅射法制备的TiB2涂层平整光滑,结构致密,沿[001]晶向择优生长,具有纳米晶结构,硬度显著提高,而且残余压应力较低.
关键词:
射频磁控溅射
,
TiB2涂层
,
GAXRD
,
残余应力
戴伟
,
张同俊
,
杨君友
,
孙荣幸
,
许聚良
材料科学与工程学报
用磁控溅射技术在钢基片上沉积出具有T区结构的TiB2薄膜,研究基片偏压对薄膜的影响.使用X射线衍射技术和扫描电镜分析薄膜的特性.发现在本研究工艺条件下,所有的薄膜均呈(001)晶面择优生长.当基片偏压在-50 V时,薄膜的硬度为50 GPa,抗塑性变形的能力为0.65 GPa.加大基片偏压,导致薄膜晶粒尺寸减小,同时薄膜的硬度和抗塑性变形的能力也下降.扫描电镜分析显示,基片温度对T区结构的影响是明显的,提高基片温度,当Ts/Tm=0.18时.薄膜中出现"等轴"结构.
关键词:
TiB2薄膜
,
超硬涂层
,
磁控溅射
,
薄膜区域结构模式
,
等轴结构
孙荣幸
,
张同俊
,
戴伟
,
李松
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2006.04.010
用磁控溅射法在1Cr18Ni9Ti不锈钢上沉积了TiB2和Ti-B-N涂层.用场发射电子扫描显微镜(FESEM)和小掠射角X射线衍射(GAXRD)研究了涂层的结构与形貌,并对涂层的显微硬度进行了检测分析.研究表明:通入N2后,Ti-B-N涂层变得更为光滑平整,涂层结构由纳米柱状晶转为非晶结构,显微硬度降低.在室温无润滑条件下,检测了涂层的耐磨性能,结果表明Ti-B-N涂层的摩擦系数低于TiB2涂层,但涂层的耐磨性并没有得到提高.
关键词:
磁控溅射
,
TiB2涂层
,
Ti-B-N涂层
,
显微硬度
,
耐磨性
