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氮氧化硅薄膜制备方法的研究

孟祥森 , 袁骏 , 马青松 , 葛曼珍 , 杨辉

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.1999.04.003

氮氧化硅薄膜综合了SiO2膜和Si3N4膜的优点,具有优秀的光电性能,力学性能和稳定性能,已经在光电领域获得了广泛地应用,此外在材料改性方面也有广阔的应用前景.本文综合评述了几种氮氧化硅薄膜的制备方法,比较了各自的优缺点,并指出了今后制备方法的发展趋势.

关键词: 氮氧化硅 , 薄膜 , 制备 , 化学气相沉积 , 物理气相沉积 , 高温氮化

常压化学气相沉积法氮氧化硅薄膜性能的研究

孟祥森 , 马青松 , 葛曼珍 , 杨辉

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2000.02.006

我们用常压化学气相沉积法(APCVD),以SiH4和NH3为先驱体,在较低的温度(＜700℃)下制备氮氧化硅(Si-O-N)薄膜,并对其性能进行了研究.研究结果表明氮氧化硅薄膜能使改性后平板玻璃硬度提高40%,并具有良好的抗高温氧化性,这种薄膜在材料表面改性领域有着广阔的应用前景.

关键词: 氮氧化硅 , APCVD , 硬度 , 高温氧化性 , 表面改性

SiON薄膜中氢的研究

魏文霖 , 孟祥森 , 袁骏 , 杨辉 , 葛曼珍 , 季振国

材料导报

氮氧化硅(SiON)薄膜是一种新型的薄膜材料,具有优良的充电性能、机械性能、钝化性能和化学稳定性能,但杂质氢的存在限制了它的应用.详细阐述了氮化硅薄中氢杂质的存在活动及其对薄膜性能的影响,并提出了降低氢含量的合理方法.

关键词: 氮氧化硅 , 薄膜 , 性能 , 杂质 , 氢

APCVD制备氮化硅薄膜的微观结构

杨辉 , 丁新更 , 孟祥森

功能材料

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