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退火时间对PbS薄膜结构和光学特性的影响

武怡 , 高斐 , 刘生忠 , 马笑轩 , 王浩石 , 宋飞莺 , 陈彦伟

材料导报

利用化学浴沉积法在玻璃衬底上50℃沉积3h制备硫化铅(PbS)纳米晶薄膜.将得到的PbS薄膜在300℃氮气中进行不同时间(0~120min)的退火.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见-近红外分光光度计对PbS薄膜的结构和光学特性进行研究.PbS薄膜在玻璃基底上粘附力较强,结晶度良好,呈面心立方结构且沿(111)方向择优生长.不同的退火时间导致PbS薄膜的结构、形貌、光学特性均产生明显差异.退火30 min的PbS薄膜的结晶度最好,其带隙变化范围为0.90~1.70 eV.

关键词: PbS薄膜 , 化学浴沉积 , 薄膜结构 , 光学特性

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