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检索条件:作者=崇二敏  

  • 论文(2)

KrF光刻胶浸酸残留缺陷的机理研究及解决方案

黄君 , 毛智彪 , 景旭斌 , 曹坚 , 甘志峰 , 李芳 , 崇二敏 , 孟祥国 , 李全波

功能材料与器件学报

相对来讲,i线(i-line)抗酸性要大大强于KrF而不容易产生类似的缺陷,但器件尺寸微缩进入45/40nm技术节点以后,由于受到分辨率(Resolution)和焦深(Depth of Focus)的限制,双栅极(Dual Gate)蚀刻所用光刻胶由之前通用的i-line(波长365nm)改成KrF...

关键词:

高质量非晶金刚石薄膜的制备研究

闫鹏勋 , 李晓春 , 李春 , 崇二敏 , 刘洋 , 李鑫 , 徐建伟

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.029

利用自行研制的磁过滤等离子体技术(FCAP),并创造性地对衬底施加低频率周期性负偏压,在室温下的单晶硅表面上制备了高质量的非晶金刚石薄膜.用扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),红外吸收光谱(IR),纳米硬度计和摩擦试验仪对制备的非晶金刚石薄膜进行了结构和性能表征.实验结果表明:制备的非...

关键词: 磁过滤等离子体 , 非晶金刚石膜 , 周期性偏压 , 性能