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  • 论文(7)

纳米金刚石薄膜的应用及其研究进展

熊礼威 , 崔晓慧 , 汪建华 , 张莹 , 易成 , 吴超 , 张林

表面技术

以纳米金刚石薄膜的应用为主线,讨论了它在机械、光学、声学、电学等应用领域的优势,以实例分析、证明了其在各领域中所展现出的优异性能.综述了纳米金刚石薄膜在上述应用领域的研究进展,同时从不同方向阐释了其研究应用过程中所存在的不足,并对其今后的主要发展方向进行了展望.

关键词: 纳米金刚石薄膜 , 应用 , 研究进展

氢气浓度对掺氮超纳米金刚石薄膜的影响

吕琳 , 汪建华 , 翁俊 , 张莹 , 崔晓慧

人工晶体学报

采用微波等离子体化学气相沉积法,以甲烷和氮气为气源,通过改变反应气体中氢气的浓度,在硅衬底上沉积出掺杂氮的超纳米金刚石膜.并利用扫描电子显微镜,拉曼光谱仪,X射线衍射仪,霍尔效应测试仪分别对掺杂氮的超纳米金刚石膜的表面形貌,组成结构及导电性能进行了进行表征,重点研究了氢气浓度对薄膜特性的影响.结果表...

关键词: 超纳米金刚石 , 氢气浓度 , 微波等离子体化学气相沉积 , 导电性

硼源浓度对纳米金刚石薄膜掺硼的影响

熊礼威 , 崔晓慧 , 汪建华 , 龚国华 , 邹伟

表面技术

目的:研究纳米金刚石薄膜生长掺硼的内在机理,实现对该过程的精确控制。方法采用微波等离子体化学气相沉积法,以氢气稀释的乙硼烷为硼源,进行纳米金刚石薄膜的生长过程掺硼实验,研究硼源浓度对掺硼纳米金刚石薄膜晶粒尺寸、表面粗糙度、表面电阻和表面硼原子浓度的影响。结果随着硼源浓度的增加,纳米金刚石薄膜的表面粗...

关键词: 纳米金刚石薄膜 , 掺硼 , 硼源浓度 , 化学气相沉积

类金刚石薄膜的摩擦性能及其应用

熊礼威 , 彭环洋 , 张莹 , 汪建华 , 崔晓慧

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.01.013

首先从成键结构的角度分析了DLC薄膜摩擦性能的由来,然后分别从DLC薄膜的沉积工艺(包括制备方法、气源种类和掺杂元素)、摩擦环境条件和基底材料选择等三方面入手,讨论了影响DLC薄膜摩擦性能的主要因素及其影响规律. 经过总结发现,通过调节DLC薄膜的沉积工艺可以改变DLC薄膜中sp2 杂化碳的含量以及...

关键词: 类金刚石薄膜 , 摩擦性能 , 摩擦系数 , 固体润滑薄膜 , 附着力

PECVD法制备掺硼纳米金刚石薄膜的工艺研究进展

熊礼威 , 彭环洋 , 汪建华 , 崔晓慧 , 龚国华

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.10.007

首先详细介绍了金刚石作为半导体材料的优异性能,然后从应用角度阐述了NCD薄膜掺B后形成半导体材料的优势,接着探讨了影响NCD薄膜性能(电性能、光学性能、生物性能等)的主要工艺条件(包括硼源种类、掺硼浓度、衬底温度、后处理).研究发现,大多数研究者都采用液态和气态硼源,而固态硼源由于很难液化且浓度不易...

关键词: 硼掺杂 , 纳米金刚石薄膜 , 电性能 , 硼源浓度 , 衬底温度

甲烷体积分数对纳米金刚石薄膜形貌的影响

熊礼威 , 彭环洋 , 汪建华 , 崔晓慧 , 龚国华

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.03.012

目的:研究不同甲烷体积分数对纳米金刚石( NCD)薄膜生长的影响,实现较小晶粒尺寸、高平整度的NCD薄膜的制备。方法采用微波等离子体增强化学气相沉积的方法制备NCD薄膜,以CH4/H2为气源,在生长阶段控制其他条件不变的前提下,探讨不同甲烷体积分数对NCD晶粒尺寸、表面形貌以及表面粗糙度的影响。采用...

关键词: 纳米金刚石薄膜 , MPCVD , 晶粒尺寸 , 表面粗糙度 , 甲烷体积分数 , 表面形貌

H2/Ar流量比对纳米金刚石形貌和结构的影响

熊礼威 , 彭环洋 , 汪建华 , 崔晓慧 , 龚国华

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.01.008

目的 研究不同H2/Ar流量比对纳米金刚石形貌和结构的影响.方法 采用MPECVD法制备了质量较好的纳米金刚石薄膜,并通过SEM、XRD对金刚石薄膜的形貌、结构以及晶粒尺寸进行了测试,还使用Raman对金刚石D峰、纳米金刚石特征峰(TPA)的变化趋势进行了分析.结果 当Q(H2):Q(Ar)=50:...

关键词: H2/Ar流量比 , NCD薄膜 , 表面形貌 , MPECVD , 平整度 , 晶粒尺寸

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