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生长温度对L-MBE法制备的ZnO薄膜性能的影响

徐庆安 , 张景文 , 杨晓东 , 巨楷如 , 贺永宁 , 侯洵

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.02.010

在蓝宝石C面上利用激光分子束外延(L-MBE)的方法,分别在250℃、300℃、350℃、400℃和450℃生长了高度C轴取向的ZnO薄膜.并进行了X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)谱的分析.测试结果表明,较低温度时,随着生长温度的升高,薄膜的结晶及发光性能得到提高;但是当温度进一步升高,却有所变差.说明利用L-MBE系统制备ZnO薄膜存在一合适的温度范围,并对此机理进行了深入分析.

关键词: ZnO薄膜 , 生长温度 , 激光分子束外延 , X射线衍射 , 光致发光谱

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