叶源
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徐勇军
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刘煜平
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涂伟萍
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廖俊旭
高分子材料科学与工程
表面金属化的聚合物因其卓越的综合性能广泛应用于多个领域,但聚合物表面金属化过程中通常会出现金属薄膜与基底材料附着力较差的问题,限制了其实际应用.为解决这一问题,多种表面改性技术被用来对聚合物的表面性质进行修饰.文中探讨了聚合物上金属薄膜附着力较差的原因并介绍了目前用以改善薄膜附着力的聚合物表面改性技术的研究进展,比较了离子注入、等离子体处理、离子束辐照、化学法、光化学法及准分子激光刻蚀等不同技术的改性效果和改性机理,对工业化应用需要克服的问题和研究方向也作了展望.
关键词:
聚合物
,
表面金属化
,
附着力
,
表面改性
,
工业化应用
李海兵
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徐勇军
,
蔡其文
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涂伟萍
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廖俊旭
中国表面工程
doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.03.005
采用磁过滤阴极真空弧沉积(FCVAD)与磁控溅射(MS)两种技术在玻璃上制备厚度分别为75 nm和165 nm的Glass/Al高反射薄膜,利用Lambda 950分光光度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、附着力测试仪、摩擦试验机和加速老化试验箱分别表征薄膜的反射率、表面形貌、粗糙度、附着力、耐摩擦和耐老化性能,通过薄膜性能评估分析两种技术制备高反射膜性能的差异.结果表明:在双方优化工艺下,FCVAD制备的薄膜表面形貌和附着力优于MS薄膜;FCVAD制备的75 nm和165 nm薄膜反射率比同厚度MS薄膜高出3.3％～4.2％;75 nm厚的薄膜方均根粗糙度明显小于同厚度的MS薄膜;FCVAD制备的75 nm薄膜老化后反射率仅下降1.2％,而MS同厚度薄膜反射率下降了3.3％～4％.说明FCVAD在制备高反射膜方面比磁控溅射更有优势.
关键词:
光学薄膜
,
物理气相沉积
,
磁过滤阴极真空弧沉积
,
磁控溅射
,
高反射膜
