张加涛
,
曹传宝
,
朱鹤孙
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2003.04.016
以单晶硅片(100)和镀Pt硅片为衬底,用电化学沉积方法在阴极制备出CNx薄膜(x接近于1),薄膜的表面平滑,颗粒均匀.热处理后得到了β-C3N4和α-C3N4多晶结构薄膜.热处理温度的提高使薄膜中的C≡N键逐渐减少而消失,氮元素的流失使薄膜中非晶碳的成分增多,但是薄膜中碳氮逐渐以sp3C-N为主....
关键词:
无机非金属材料
,
CNx薄膜
,
电化学沉积
,
光电性能