欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(2)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

层状双金属氧化物吸附溶液中硼的性能研究

李小燕 , 刘义保 , 张卫民 , 张明 , 李寻 , 杨波 , 花榕

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.02.005

采用共沉淀法合成层状双金属氢氧化物并经过高温煅烧后形成层状双金属氧化物,用扫描电子显微镜对样品进行了表征.研究了层状双金属氧化物对硼的吸附性能,考察了溶液pH值、吸附剂用量、吸附时间、吸附温度对吸附性能的影响.实验结果表明,层状双金属氧化物对模拟废液中的硼有很好的吸附效果,当溶液pH值=9.5、吸附剂用量为0.20 g、硼初始浓度为100 mg/L、反应时间为100 min、温度为303 K时对硼的去除率为94.47%,吸附量为47.24 mg/g.等温吸附研究结果表明,Langmuir模型能更好地描述吸附过程,表明Mg/Al-LDO对硼的吸附主要发生在Mg/Al-LDO表面的活性区域,属于饱和单分子层吸附.

关键词: 层状双金属氧化物 , 煅烧 , , 吸附

硅烷膜的阴极电化学辅助沉积及其防护性能

张卫民 , 胡吉明

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2006.03.012

采用电化学辅助技术在LY12铝合金表面沉积了两种防护性硅烷膜(1,2-二-(三乙氧基硅基)乙烷(BTSE)膜与十二烷基三甲氧基硅烷(DTMS)膜).电化学阻抗谱测试结果显示,经硅烷化处理后铝合金的耐蚀性能得到大幅度提高,并且发现在阴极电位下沉积所得硅烷膜的耐蚀性能较常规"浸涂法"有明显提高;两种硅烷膜均存在一个最佳的"临界阴极电位"(-0.8V),在此电位下制得的膜耐蚀性最佳.扫描电镜观察显示临界电位下所得硅烷膜最为完整致密,电位过正不利于成膜,而电位继续变负膜表面呈现多孔形貌,可能与氢气的生成并溢出破坏表面有关.由于在硅烷分子中含有疏水性较强的十二烷基长链,DTMS膜具有更好的耐蚀性.

关键词: 硅烷膜 , 电化学辅助沉积 , 铝合金 , 防腐蚀

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词